光刻机|双管齐下，芯片法案+限制光刻机出口，美国这次的算盘可能打错了芯片|半导体|it芯片|重器

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为了限制我国半导体产业的发展，美国这几年可谓是煞费苦心，对华为等企业进行制裁，限制各种技术出口到中国，短期来看，美国的这些做法是有效的，给我国半导体产业带了不少压力，典型的事件就是华为因为麒麟芯片的缺失，手机业务受到了沉重的打击。

【光刻机|双管齐下，芯片法案+限制光刻机出口，美国这次的算盘可能打错了】

不过塞翁失马焉知非福，美国的这些举动，让国人认清了现实，国内的相关行业将压力转化为了动力，国家也下定了决心，要大力发展半导体等产业，以摆脱“卡脖子”的问题，随着相关投入的不断增加，中国本土半导体产业的发展反而加速了。

虽然有成绩，但是我们要保持冷静，不能盲目乐观，要意识到我国在半导体制造上面的水平还不强，与台积电，三星和Intel这些巨头的差距比较明显，而美国对此事也很清楚，因此采取了更多的措施。

一方面，美国采用拉拢的手段，提出了芯片法案，该法案的相关内容中，提出了为那些在美国建厂的半导体公司提供500多亿美元的补贴，以及各项税收抵免政策，不过接受了美国这些补助的企业，在美国建厂后， 10年内不得扩大对中国高端芯片的投资。

这个法案的目标很明确，就是逼迫相关企业在中美之间选边站队，拿了美国的钱，就不能在中国进行先进工艺的投资，以此来限制中国的半导体行业发展。目前美国参议院已经通过了这个法案，接下来就看能不能在众议院获得通过了。

另一方面，美国在光刻机上面做文章，这属于直接对中国的相关企业出手，在2019年的时候，荷兰就和美国达成了协议， ASML不能向中国大陆芯片制造商出口EUV光刻机，而前不久美国希望ASML限制DUV光刻机对中国的出口。

光刻机是芯片制造的核心部件， EUV光刻机相比DUV光刻机更加先进，可以用于制造7nm以上的芯片，而DUV最高只能制造7nm的芯片，如果说以前美国不让出口EUV光刻机，是不希望中国制造出7nm以上工艺的芯片，现在现在限制DUV光刻机无疑是变本加厉，因为目前全球的大部分芯片都是用DUV光刻机制造的。

不过好消息是美国的这个举动遭到了光刻机巨头ASML的拒绝， ASML首席执行官表示，中国大陆是半导体产业的重要参与者，是全球非常重要的供应商，中国大陆拥有满足全球电子市场需求的芯片制造能力，必须要小心正在做的事情。

从该言论中可以看出，如果限制DUV光刻机出口到中国，全球的芯片供应将会面临巨大的缺口，会导致半导体产业链的中断，半导体市场的崩溃，这对于半导体产业链上面的任何公司都是灾难，而中国大陆是ASML的第三大市场，约占2021年销售额的16% ，如果限制DUV光刻机的出口， ASML除了短期利益遭受损失，市场崩溃带来的长期影响也不能忽视。

总的来说，美国对于中国半导体行业的遏制不会善罢甘休，除了直接限制各种技术和设备的出口外，美国也在加强本身的半导体制造技术发展，而中国想要破局，除了提升国内的半导体行业水平，还要积极扩大全球的市场占比。

这次如果不是因为中国是全球芯片的重要供应商，成为了全球市场的重要玩家，美国限制DUV光刻机的后果太严重，整个市场都承受不了，估计美国限制ASML向中国内地出口DUV光刻机就已经得逞了，反正中国的崛起已经不可阻挡了，美国是不会如愿的。