光刻机|没有EUV光刻机，照样生产5nm芯片？佳能官宣，或2025年量产( 二 ) 极紫外光刻|芯片|佳能|it芯片

想要用另一种方式实现5nm芯片制造，先不说是如何做到的，如果是真的，佳能NIL技术能取代EUV光刻机吗？或许不太可能， NIL技术的出现最多只是一个补充，无法完全取代EUV光刻机。

原因很简单，因为等佳能利用NIL技术造出5nm芯片时，最快也是2025年的事情了。到时候ASML交付市场客户的EUV光刻机数量至少有四五百台左右。
这么多的EUV光刻机足以遍布芯片制造商的生产线，该买的EUV光刻机都买的差不多了。一旦生产线饱和，很难容纳新的设备进入。
而且新设备需要调试，需要大量的时间进行验证。一个是经过工程师准确调试，生产无误的EUV光刻机，另一个是不知产能，性能水准的新设备，芯片制造商会如何选择一目了然。

当然，作为补充的话， NIL设备的耗电量以及设备投资还是比较吸引人的。 EUV光刻机太贵了，也不是所有国家都能买得到，因此NIL设备对一些无法采购到EUV光刻机的制造商来说，或许是一种解决方案。
写在最后对于佳能这样一台设备，一旦成功量产，还能实现5nm芯片生产的话，有可能改变半导体制造业的格局。其官宣或在2025年量产可用于5nm芯片生产的设备，不过一切还需要静观其变，在此之前，国产也得继续努力。
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