光刻胶|三星计划今年底导入Inpria无机光刻胶有望应用于5nm制程中芯国际|财联社

据外媒报道，三星正致力于推动光刻胶供应多元化的实现，计划在今年之内导入Inpria的无机光刻胶，目前已经完成性能评估，有望应用于5nm超精细工艺制程。
光刻胶及其配套化学品占半导体材料产值12%，全球市场规模近百亿美元，行业技术壁垒和客户壁垒高，目前主要被日本、韩国和欧美国家垄断。根据Cision数据，2019年中国光刻胶市场规模约88亿人民币，预计该市场2019-2022年仍将以年均15%的速度增长，至2022年中国光刻胶市场规模将超过117亿人民币。
据财联社主题库显示，相关上市公司中：
【光刻胶|三星计划今年底导入Inpria无机光刻胶有望应用于5nm制程】晶瑞股份为客户提供紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分g线、i线正胶等高端产品，公司承担并完成国家重大科技项目02专项i线光刻胶产品开发及产业化项目。安集科技化学机械抛光液、光刻胶去除剂均向中芯国际稳定供货。

光刻胶|三星计划今年底导入Inpria无机光刻胶 有望应用于5nm制程

光刻胶|三星计划今年底导入Inpria无机光刻胶有望应用于5nm制程