光刻机|未来或将取代光刻机？国产冰刻机迎新进展，实现商业化指日可待( 二 ) 芯片

相信在未来，产能等各方面也会有进一步的提升。可以早日和光刻机进行相比，甚至达到超越的状态。冰刻机能够在我国研发出来最大的功臣，就要数西湖大学了，对于我国研发冰刻机做出了很大的贡献，为我国芯片事业的发展更是不遗余力。

如今，在西湖大学仍然有很多专业人士，都是在芯片领域顶尖的人物，他们在未来会带给我们更多的奇迹，我们也将会听到更多关于我国制造芯片的好消息。而关于其他国家垄断芯片产业这一问题，我国也将会早日解决，从而减少其他国家对我国的垄断以及控制。
结语
【光刻机|未来或将取代光刻机？国产冰刻机迎新进展，实现商业化指日可待】无论是光刻机还是冰刻机，只要能够制造出芯片，能够产生好的动力效果，那么就是好的结果。但是如果其他国家想要把拥有光刻机当做垄断市场一样，进行出售，那么就会带来不好的后果，我们国家势必会研发出新的武器来应对。