阿斯麦尔|比出货78台DUV光刻机还严重，外媒：ASML已经有“想法”了光刻机|芯片

文章图片

文章图片

文章图片

芯片生产制造离不开光刻机，而光刻机技术最先进的厂商是ASML ，其研发制造的光刻机不仅占领了中高端市场。
关键是， EUV光刻机是生产制造7nm以下芯片的必要设备。
但ASML的EUV光刻机生产制造出来后，其就不能自由出货，芯片等规则被修改后， ASML的DUV光刻机也受到了一定的约束。
数据显示，国内市场是全球最大的芯片消费市场，每年也生产制造大量的集成电路，月产能约300亿片，自然对光刻机等也有很大需求。

面对这样的情况下， ASML多次明确表态，限制ASML等自由出货，只会加速其它厂商突破，未来10年， ASML可能就会退出国内市场。
另外， ASML还在加速向国内市场出货，数据显示， ASML近年来已经向国内厂商出货78台DUV光刻机，其中23台DUV光刻机都在今年第一季度完成的。
由于ASML向国内市场出货的DUV光刻机数量不断增加，国内市场还超越美国成为ASML第三大市场。

可以说，光刻机数量的增加，也提升了国内芯片的产能，更多厂商采用国产芯片，数据显示，今年前五个月，国内芯片进口总量下滑了280亿片，同比下滑10.9% 。
于是，就有消息称，美可能会进一步对ASML等继续游说，要求其进一步控制国际主流需求的光刻机出货范围。
但无论荷兰还是ASML均没有做出同意的表态，也没有进一步做出其它限制出货的措施。
面对这样的情况，就有外媒表示这比出货78台DUV光刻机还严重， ASML已经有“想法”了。

首先， ASML一直都在尽可能地提升EUV光刻机等设备的产能，不仅扩大了位于新加坡工厂的生产线，还主动提升了EUV光刻机的产量，预计2年生产制造115台。
另外， ASML还在加速研发全新一代High NA EUV光刻机，预计2023年完成原型机打造， 2024年可能就会交付给厂商测试、使用。
也就是说，提升EUV光刻机产能，加速发展全新一代High NA EUV光刻机都是为了自由出货。
其次， ASML不仅向国内厂商出货更多数量的DUV光刻机，关键是，其还在国内市场进行更多布局。

例如， ASML已经计划扩大国内研发中心的规模，将扩招200名研发人员， ASML还计划在国内建设维修中心等。
可以说， ASML在全球范围内维修中心是屈指可数的，其计划将维修中心放在国内市场，就足以证明其对国内市场的重视程度。
最后， ASML也面临新技术的压力，如果不及时出货，就会被市场淘汰的风险。
要知道， NIL工艺、先进的封装技术以及堆叠芯片都已经出现，并开始广泛应用，其中， NIL工艺可以在不用EUV光刻机的情况下，将芯片制程缩小至5nm 。

而且， NIL工艺相比EUV工艺而言，不仅能够节约90%的设备成本费用，还能够节约大量的能源消耗。
而先进的封装工艺和堆叠芯片均可以在不改变芯片制程的情况下，将芯片的大幅度提升或者翻倍提升。
芯片制程不改变，就意味着不需要更先进的光刻机等设备，可以说，一旦这些技术普及， ASML的压力更大，甚至会被市场所淘汰。

在这样的情况下， ASML自然会有想法，尽快实现自由出出货，或者尽可能地出货，但出货越多，对美芯片等产品的依赖也就将随之降低。