比如在智能汽车领域 , 28nm , 14nm就已经是非常高端了 。 因为这类产品不需要太过精细的芯片 , 它的产品面积可容纳更大 , 更多的晶体管 , 完全可以把硅片晶圆做得更大一些 。
而智能手机的面板每一平方厘米都非常珍贵 , 所以会把芯片做得和指甲盖大小一样 , 在有限的空间追求更强大的性能表现 , 自然对制程工艺有更高的要求 。
但电子消费市场不是所有 , 行业83%的需求都集中在10nm以上 。 这点来看 , 14nm确实够用 , 大部分的产业需求都能得到满足 。
其次胡伟武是希望国产半导体以扬长避短的方式进行发展 , 别人做7nm , 5nm , 我们在做之前也要考虑能不能做到 。
不仅要掌握相应的制造工艺 , 攻克一系列的生产难题 , 还要从国外进口必不可少的EUV光刻机 。
如果这两点都无法做到的话 , 那还不如发挥自己在成熟工艺领域的长处 。 先占据这部分的市场份额 , 获得足够的营收利润保障时 , 才有能力投入到更先进的制程工艺研发项目当中 。
而不是盲目地别人做什么 , 自己也跟着做什么 。 东施效颦之所以适得其反 , 就是因为模仿的那个人还不具备相应的条件 , 自然会失败 。 所以我们要走自己的路 , 去找到一条适合自己的发展道路 , 至少在当下的国产半导体环境中 , 14nm的确已经够用了 。
胡伟武指出了国产半导体发展的关键 , 扬长避短才是我们要做的 。 所以在这样的情况下 , EUV光刻机能不能供货中国 , 本质上并没有太大的影响 。
总结一个产业的发展是需要循序渐进的 , 就算这时候ASML可以自由出货EUV光刻机 , 我国企业也能顺利购买 。 但是其它的高端产业链可能仍需要从国外进口技术 , 到时候又面临同样的供货难问题 。
所以最好的方式是加强自主可控的产业链实力 , 做好自己该做的 , 避免受制于人 。
【光刻机|EUV光刻机不供货中国,中国专家坦言:不需要】对此 , 你有什么看法呢?
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