半导体|四类设备已国际领先！详解中微半导体成功的秘诀( 三 ) 四类设备已国际领先！详解中

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据尹志尧介绍，在2018年四季度，中微半导体的MOCVD设备在国际氮化镓基MOCVD市场占有率已经达到了70%以上。

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尹志尧表示，由于LED、MiniLED、MicroLED市场的需求快速增长，MOCVD设备开始被广泛应用于LED、MiniLED、MicroLED的制造，因为主要需要解决发光元件即可，不需要像制造逻辑或存储芯片那样复杂，因此也吸引了众多的企业入局。
根据统计数据显示，近十年以来，国内已有54家公司和研究所曾宣布开发MOCVD设备，但是只有中微半导体成功量产。

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△中微半导体开发的MOCD有机金属化合物气象沉积设备100台在客户生产线上被用于产品量产。
据尹志尧介绍，2017年到2021年，中微半导体的MOCVD设备也在不断进行了改进和提高，蓝绿光LED波长均匀性，已经成功从波长1.57nm做到了0.7nm左右。

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凭借出色的产品竞争力，中微的半导体设备获得了众多国内外客户的广泛认可。在2018年-2019年美国VLSI Reaseach全球半导体设备公司产品客户满意度评比中，中微半导体的是评比中，中微连续两年获得全球第三名。在2021年的客户满意度评比中，中微也有三项排名位居前列。

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3、产品创新：不要跟着外国人的设计
成立于2004年的中微半导体，从一家小的初创公司发展至今，已经成为了一家市值近千亿的国产半导体设备公司，并且在刻蚀设备及化学薄膜沉积设备领域拥有了较强的产品竞争力。
“中微公司经过17年努力，已经做到在国际上被认可的高质量设备公司。我们最近在总结这个17年经验和教训，提出了四个十大原则，指导我们能够把公司做大的一个基本经验。包括产品开发十大原则、战略和商务十大准则，运营管理的十大章法和精神文化十大作风。”

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特别是在中微产品开发十大原则方面，尹志尧表示：“我特别强调的是，开发产品不要老跟着外国人的设计，这样是不可能进一步发展的，所以中微在2004年启动的时候就提出来一个新的等离子源的概念，深高频去耦合的反应离子刻蚀，把高频和低频混频在电机上，这样的新型刻蚀机有非常好的性能。”

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另外，在机械结构上，中微半导体也做了创新。“美国都是单反应器的反应台，加工一片硅片成本很高，占地面积很大。我们回国以后提出双反应台的概念，一个反应腔里面有两个反应台，可以独立操作，也可以混合操作，误差一般在正负1%左右。这个设计到现在为止，国外三大公司都还没有做，只有中微能做出独立操作的双台机，这样使得成本降低了30%多，输出量提高了50% 。”尹志尧非常自豪的介绍到。