再者 , 内部人士也有相关爆料关于国产光刻机 , 我们一直在努力 , 甚至连EUV相关的技术也早就已布局 。 但大家不知道的是 , 今年以来在突破国产先进光刻机方面加大了力度 , 力争能够尽快突破 。
近期有网友在网上曝光了一个聊天截图 , 谈话的内容就是关于国产先进光刻机的研发 , 表示已经下达了硬性任务 , 并且抽调了相关的很多机构研发人员 , 正在联合攻坚 。
关于具体的进度并没有过多透露 , 不过意思表示 , 应该可以尽快取得重要进展 。
【光刻机|外媒:国产光刻机提前了?】从以上三点可以看出 , 国产沉浸式光刻机应该快了 。 一旦实现了这个关键节点的突破 , 接下来就能够做出更先进的DUV光刻机 , 这就解决了国产芯片制造绝大多数限制 。
DUV高端光刻机如果能实现突破 , 接下来再突破EUV , 应该也就更加的容易了 。
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