一台包含10多万零部件光刻机为什么中国做不出来 _生活百科

光刻机为什么中国做不出来（一台包含10多万零部件），根据此前美国彭博社的专题报道来看，美国呼吁荷兰的光刻机生产公司阿斯麦，限制对中国出口光刻机这类芯片设备，而荷兰外贸和发展合作大臣却给出了反对

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根据此前美国彭博社的专题报道来看，美国呼吁荷兰的光刻机生产公司阿斯麦，限制对中国出口光刻机这类芯片设备，而荷兰外贸和发展合作大臣却给出了反对的法案，表示他们将会以“捍卫本国经济利益”为主。
美国彭博社的专题报道，关于限制荷兰向中国出口光刻机
不难看出，美国似乎一心想从“光刻机”方面限制中国发展。
那么，到底什么是光刻机呢？为什么有人说中国想自己造高端光刻机不现实呢？
光刻机到底是什么？在“江湖”上，总有光刻机的传说，比如说假如你发明出了光刻机，将会受到怎样优待的“臆想” 。可是大家光顾着将这种《开局造出光刻机》的臆想当爽文来看，却不知道光刻机到底是什么东西。
光刻机到底是什么呢？
光刻机其实是集成电路制造中的一个核心设备，它涉及的高科技领域很多，比如系统集成、精密光学、精密运动、高精度微环境控制等都与其有关，技术含量非比寻常。
或许也正是因为这样，光刻机一度被誉为是人类20世纪的发明奇迹之一，属于集成电路产业皇冠上的“宝贵明珠” 。
在需要多重高科技技术支撑的情况下，光刻机本身的造价也十分高昂，比如ASML公司的极紫外光光刻机，单价就将近2亿欧元，若是以此前欧元和人民币的汇率来算，就相当于价值14.9亿人民币，一台机器卖出这种高价无疑是相当惊人的。
ASML公司的极紫外光光刻机价值2亿欧元
光刻技术起源于印刷技术中的照相制版术，所以光刻机就像是一个性能夸张的单反相机，将层次光掩膜版上的图形进行缩小，缩小的比例高达百万倍，然后再将其进行制造。
它能够将光掩版上设计好的集成电路图形，通过光线的曝光印到光感材料上。
光刻机的工作原理
说到这儿，大家可能已经茅塞顿开，合着这玩意儿就起着“转移图形”的作用。这样的话，似乎也没什么了不起。从理论上来说，转移图形并不难，难的是芯片变得越来越小，其中容纳的晶体管数量越来越多。
这就意味着，光刻机必须要将复杂的集成电路图形，精确地转移到小N倍的芯片上，一旦出现什么意外，芯片就报废了。并且，随着大家对芯片大小和性能要求的不断提高，“光刻机”就显得更加重要了。
随着芯片大小的改变，光刻机的作用愈加明显
就这样，光刻机的线宽在不断优化升级，它的飞速发展创造了诸多的契机，让IC制造技术的极限不断被打破，摩尔定律也得到了不断的延伸。
中国科学院微电子研究所的陈宝钦在文章《光刻技术六十年》中表示，“从1968年半导体IC 由实验室走向工业大生产算起到现在，集成度提高了约百亿倍，最小特征尺寸图形的加工线条宽度缩小到原来的约 1/10000 。”
特邀文章《光刻技术六十年》
不过，随着世界局势的变化，中国和美国的贸易摩擦升级。在这种情况下，我国在传感器、芯片、高端设备方面受到了一定的限制。比如咱们在上文中提到的，美国呼吁荷兰不要向我们出口高端光刻机。
对此不少人应该都会说，别人有都不如自己有，所以我们还是得自己造高端光刻机，这样就不用担心被人“卡脖子”了。这个想法确实很不错，而且国家的智囊团应该早都这么想过了，那么，为什么“高端国产光刻机”却迟迟没有动静呢？
中国何时才能造出高端国产光刻机，避免芯片制造陷入困境？
我国造光刻机的困境何在？世界的光刻机市场上有多个国家同台竞技，主要的品牌有ASML、Nikon、Canon、ultratech等等，但是要论高端光刻机，就只剩下ASML一家独大了。它本身脱胎于飞利浦光刻设备研发小组，早期发展很艰难，但后期却异军突起，杀出重围。
ASML早期发展艰难，后期异军突起
目前，ASML垄断了高端深紫外光刻机市场，是光刻机领域的龙头企业。因此，想限制高端光刻机很容易，只要对ASML下手就可以了。
【一台包含10多万零部件光刻机为什么中国做不出来】而我们的高端国产光刻机之所以迟迟没有出现，主要是因为光刻机的制造没有大家想象中的这么简单。虽然高新的技术可以通过不断地钻研学会，但是一台完整光刻机却包含10万多个零部件，并且这些零部件的5000家供应商遍布全球。
光刻机不仅零件诸多，供应商还遍布全球
这就意味着，现在想制造出“完全国产”的并不现实，就连著名的ASML公司其实都是承担了核心零件的生产，以及整体的装机工作而已。
根据资料来看，光刻机当中的10万多个零件，需要按照功能和既定步骤组成若干组件，这些组件包括工作台、封闭框架、曝光组件等等。然后又要按照光刻机的不同系统进行分类组装，比如光学系统、测量系统、传输系统之类的。
除了以上两个关键之处，还有配套设施和后市场之类的，它们的存在让光刻机产业链非常的复杂，从而也使人们难以做到，制造出一个所有零件都自己生产的光刻机。
光刻机的产业链非常复杂
更不用说，中国的光刻机产业本来就处在起步“奋起直追”的阶段，想自己独揽所有零件的制作，无疑是痴人说梦的，并且想“偷学”些技术也很难，因为别人也很警觉。
就算是ASML出售给中国的光刻机，仍然存在保留条款，比如说禁止给中国自主CPU代工，科研和国防领域的芯片只提供小批量生产。
综上所述，我国目前的国产光刻机整机交付的制造精度只有90纳米，对比高端光刻机还差得很远。不过，这已经达到了常用的光刻水平，对于一些低端芯片的生产已经够用了。
中国能够整机交付的90纳米光刻机
当然，困难只是一时的，我们会不断地努力下去，试图早早解决光刻机零部件难以自己生产的问题。那么，想尽早创造出更高端的光刻机，承包更多的高端零部件生产，中国应该怎么做呢？
中国应该怎么做？首先就是加大科研力度，在一定基础上建立起联合攻关机制。
所谓的联合攻关，就是将高端科研机构和知名高校、相关企业等联结在一起，让他们之间进行友好的交流与合作。毕竟人多力量大，如果可以集思广益的话，相关难题解决起来要容易一些。
建立联合攻关机制，集思广益解决难题
其次就是坚持自主研发。虽然光刻机的零件实在是太多了，但是为了创造出真正的高端国产光刻机，我们还是要从零部件入手，慢慢钻研，掌握核心的科技。在摸索出一条道路之后，还要特别注意在生产方面需要保持严谨。
最后一点就是更深地融入全球产业生态当中，让中国也成为高端光刻机产业链中上游当中，一个不可或缺的存在，加强与其他企业之间的合作。只有这样，我们才能不断地进步。
让中国光刻机零部件制造融入全球产业生态中

一台包含10多万零部件 光刻机为什么中国做不出来

一台包含10多万零部件光刻机为什么中国做不出来