另一方面 ， 大毛投资6.7亿卢布开发全新的光刻机设备：无掩模X射线光刻机 ， 它是全球仅有且光刻精度达到EUV级别的光刻机 。 X射线的波长介于0.01nm到10nm之间 ， 比EUV的13.5nm还要短 ， 所以它的分辨率或许会比EUV光刻机高很多 ， 甚至可用于7nm及以下芯片工艺制程 。 除此之外 ， 由于不需要光掩模 ， 光刻机的成本也会大大降低 ， 一旦量产 ， 这必将成为它最大的优势 。
虽然 ， 现在已有的X射线光刻机的效率精度还不能超过EUV光刻机 ， 但大毛研发X射线光刻机的资金 ， 技术 ， 决心样样不缺 ， 研发成功只是时间问题 ， 一旦成功 ， 大毛或会直接闯出芯片封锁 ， 而这对同样被断芯的华为来说 ， 也会很值得高兴 ， 毕竟突破老美的芯片封锁也是我们国产企业的目标 。 （竹子）
ASML不再供应光刻机 ， 俄厂商掏出“备胎” ， 连华为也能受益
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