asml|俄传来了好消息，ASML情况不妙了！光刻机|芯片|华为|it芯片

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今天跟大家聊一聊：俄传来了好消息， ASML情况不妙了，华为将成为受益者！
芯片从研发设计、制造生产、到最终的封装测试，每一个步骤都是顶尖科技的成果，复杂、多样的工序，也让芯片的价值持续走高，但毕竟能够掌握尖端技术的企业在少数，而这些企业分布在不同的国家，这也给国内对于芯片的国产化，增添了很大的难度。

在相关限制之下，台积电、高通、三星等等芯片厂商，在出货自由度上受限，全球半导体行业也迎来了全新的“洗牌” ，而作为唯一有能力生产光刻机的ASML公司，虽然多次表态愿意提供光刻机给我们，但奈何始终无法获取授权，这也导致我们在芯片制造上，遭遇了很大的困境。
进入到3月份，在特殊形势的影响下，这些国际芯片企业又开始了“一条心” ，台积电、三星、苹果、谷歌、高通等等企业，直接中断了和俄市场的合作，俄市场在科技方面本身就以以来依赖为主，这一举动直接影响到了民众和企业的生存问题，好在目前反制措施已经开启了。

而俄市场在芯片领域同样缺乏相应的技术，甚至于相比我们还要更糟糕，目前能够实现的自主化工艺仅为65nm ，原因就在于ASML的光刻机上，从始至终没有向他们出口过一台，就算是DUV光刻机也没有！
俄市场传来好消息面对美企在科技层面的中断合作，俄市场自然不会坐以待毙，目前已经积极布局一切可能的应对措施，在新消息传出之后，目标直指ASML公司，这次的情况不妙了。

根据外媒传来的消息，目前俄技术学院已经接下了研发光刻机的任务，后续还将参与攻克更多先进芯片制造设备！
通过对传来的消息进行分析，可以得知他们参与的光刻机研发，还是有别于ASML的EUV光刻机的，但在技术的先进程度上倒也不分伯仲，以X射线技术作为光源技术基础，很好的避开了欧美技术的限制。

而这X射线的波长，比EUV光刻机所使用的极紫外光还要短，是一个非常理想的光刻技术，其波长只要介于0.01nm到10nm之间，如果被用于光刻机的制造的话，很有可能效果会比极紫外光更优异，虽然俄在高科技领域有点乏力，但在基础科学和材料方面还是全球顶尖的存在。
在这样的消息传出之后， ASML的压力无限增大，此前日企就宣布参与光刻机的研发，要知道最早的光刻机就是日本研发的，后面之所以没落了，也是因为相关限制导致的，如今一旦恢复相应的技术研发，取得相应的成绩还是很简单的，如今俄技术学院也开始参与进来，这对于他们来说可不是一件好事。

华为或将成为受益者如果俄研究所真的利用X射线，避开了含美技术，实现了对于光刻机的生产制造，毫无疑问最大的受益者将是中国市场，毕竟两个国家有良好的市场合作基础，至少能够保证类似的限制不会发生，和华为的困境也将被很好的解除。