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作为知名的跨国集团 , 三星的实力不是一般的雄厚 , 之前就有消息说三星电子代工部门已经研发出了 3nm 制程工艺的芯片 , 再到后面传出三星涉嫌 5nm、4nm 造假 , 导致连高通这样的大客户也从其手中溜走 , 从而往台积电那边的跑 , 这样损失虽不说伤筋动骨 , 但是也算是一大损失了 。
虽然说失去了高通这种大客户 , 但是作为和台积电齐名的晶圆代工厂 , 三星对于 3nm 节点上会比台积电更激进 , 还想要全球首次推出 GAA 晶体管工艺的美称 。 近日 , 据媒体报道 , 三星已经准备在韩国平泽市的 P3 工厂开工建设 3nm 晶圆厂 , 没有意外的话 , 预计会在 6 月份前准备动工 , 到时候就可以导入设备进行调试了 。
据三星官方表示 , GAA 晶体管是一种新型的环绕栅极晶体管 , 通过使用纳米设备制造出 MBCFET , 该项技术可以增强晶体管的性能 , 主要是想取代 FinFET 晶体管技术 。 说到这个 FinFET 晶体管技术 , 目前台积电的3nm 节点依然使用着该项技术 。
三星官方还表示 , 和 7nm 的制造工艺比起来 , 3nm GAA 技术在编辑面积上提升了 45% 左右 , 功耗相对的减低了 50% , 性能上提高了 35% , 从参数上来看 , 三星的 GAA 晶体管技术要比台积电的 3nm FinFET 工艺要强上不少 , 当然 , 这些都是属于片面的 , 具体的还是要等正式发布之后才能知道 。
【台积电|三星3nm晶圆代工厂在6月份动工,略胜于台积电的3nm FinFET技术?】值得一提的是 , 三星已经把精力放在 3nm 节点上的 GAA 晶体管上 , 7nm、5nm的性能比不上台积电 , 但是三星在 3nm 的 GAA 晶体管技术有了一个较大的提高 , 不知道到时候和台积电 3nm FinFET 技术相比谁强谁弱 。
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