ic|半导体设备业者:3纳米良率拉升难度飙升 台积电已不断修正3纳米蓝图

【 ic|半导体设备业者:3纳米良率拉升难度飙升 台积电已不断修正3纳米蓝图】【半导体设备业者:3纳米良率拉升难度飙升 台积电已不断修正3纳米蓝图】财联社2月21日电,台积电、三星电子(SamsungElectronics)先进工艺大战即将进入3纳米世代。但据半导体设备业者表示,3纳米良率拉升难度大飙,台积电为此已不断修正3纳米蓝图,且划分出N3、N3E与N3B等多个版本,寻求最适设计且符合不同客户需求,但3纳米方案迄今问题依旧一箩筐,下半年月产能恐难达标,使得多家 IC设计客户纷延长停留在5纳米家族世代时间。