上海微电子|国产光刻机再传好消息，中国已加足马力研发，荷兰垄断念想破灭

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图为光刻机

近期在国内科研人员的努力下，国产光刻机再传好消息，EUV技术再度取得突破，在重要的先进光刻机领域，中国已加足马力研发，或将于不久的未来将推出自己的先进光刻机，让荷兰垄断念想破灭，由于掌握了最先进的技术，荷兰想垄断光刻机市场，利用技术上的不对等来赚取其他国家的外汇资源，那么在中国加足马力研发的情况下，是否有望在最迟三年内打破垄断?荷兰ASML总部设在荷兰埃因霍芬，是全球最大的半导体设备制造商之一。

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现代的各种电子设备更新换代的速度正在变得越来越快，并且每升级一代，其运算性能就会得到较大的提升，而支撑其性能变化的，就是其中安装得越来越强大，运算速度越来越快的各种芯片，而对于制造厂商来说，要提升芯片的运算能力，最简单的方法就是将芯片的制程变得越来越小，如果能将14纳米的制程变成7纳米的，那么在同等大小的芯片上就能多塞下整整一倍的运算单元计算能力，自然能够得到巨大的提升，而光刻机就是实现这一过程的重要设备。

但目前世界光刻机市场都被一家叫做阿斯麦的荷兰公司所垄断，其市场占有率达到70%以上，而10纳米级别以下的光刻机占有率更是达到100%，堪称是这一领域的超级巨头。

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而在美国推行的出口禁令的影响下，该企业不仅不向中国出售最为先进的EUV光刻机，就连此前已经签订的订单也尚未向中国交货，因此这更加凸显出中国自研光刻机的重要意义以及必要性，中国毫无疑问拥有这方面的能力，就连阿斯麦公司的高层都亲口承认，如果停止对华出口光刻机，那么在三年之后，中国就能自己掌握这一技术，并且将其价格压到更低的水平，还能和阿斯麦争夺国际市场。

事实上这句话并非空穴来风，中国的确具备这方面的强大实力，近些年来，中国在各个领域都取得了一些极其先进的技术成就，例如国产盾构机从无到有的逆袭和FAST天眼的建造，都证明中国在科研能力上绝对不输西方先进国家，除此之外近些年来由于摩尔定律的影响，各国在芯片的研发上都已经进入了瓶颈期，需要寻求新的材料和技术实现突破，这就给国内的企业带来了弯道超车的机会，如果中企能够率先找到合适的材料以及相关技术，则能够一跃成为世界范围内光刻机技术最为先进的国家。

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当然需要指出的是光刻机的生产绝不简单，即使是占据垄断地位的阿斯麦公司，也需要仰仗背后的多达5000家供应商，提供各种各样的数万个零件，才能打造出一台足够先进的光刻机，而中国要靠一个国家的力量和五千多家环球供应商进行技术上的竞争，其难度可想而知，更不用说截至目前为止，国内实际上只有上海微电子一家光刻机厂商，打造出的光刻机，最大精度也只有50纳米，因此打破垄断之路任重而道远，还需要中国科研人员继续上下而求索，才能实现这一目标。

【来源:思远防务】

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