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正常出货没问题?美规确认ASML再度表态 , 中芯国际的决策相当关键!
光刻机是制造芯片的核心设备 , 目前国产水平仅能达到90nm水准 , 虽然已经实现了28nm设备的关键突破 , 但高度依赖全球化的属性 , 如果没能获得供应链的支持 , 想要实现量产化还需要些时日 。
凭借着ASML的DUV光刻机供应 , 国内已经实现了14nm产能的成熟量产 , 鉴于万物互联、智能汽车等产业的崛起 , 成熟工艺需求在不断攀升 , 国内半导体产业也迎来了全速的发展 , 压力也来到美半导体身上 。
为了维护自身的优势 , 美半导体不断施压荷兰、日本跟随新规 , 限制ASML、尼康、佳能的出货 , 全面断供成熟工艺光刻设备 , 试图“锁死”中企的14nm工艺 , 中芯国际的决策起到决定性作用 , 能否换回优势呢?
能够正常出货?根据最新的限制规则 , 28nm以下被定义为先进工艺 , 而用于先进工艺芯片制造的设备 , 是不被允许出货给“特定市场”的 , 而新规的升级针对性也非常明显了 , 美半导体“扛”不住中企给予的压力了 。
根据ASML的声明:“美日荷已经达成了侧重于先进芯片制造技术的协议 , 跟进但不仅限于先进的光刻系统 , 但正式实施还需要一定的时间 , 不会影响2023年ASML的营收 。 ”
实际上如果这份声明准确的话 , 在其中是能够得到想要的答案的 , ASML特意强调不会影响2023年的预测营收 , 至少证明了今年中企获取DUV光刻机 , 不会受到太大的阻碍 。
但这也有着两层意思 , 其一是这项新规至少要等到2023年之后才能实施 , 其二就是这项规则的实施 , 不影响已经签订的出货协议 , 当然无论哪一种情况 , 对双方而言都算是“最好的消息” 。
但对于现阶段的中国市场而言 , 维持一年的设备自由出货 , 这已经是非常大的助力了 , 能够为国产颠覆性技术以及光刻机突破 , 争取到更多的时 , 以目前中国半导体的现状 , 只要有一丝机会都不可能放过 。
中芯国际的决策完成自救在ASML的正式表态之下 , 直接体现了中芯国际决策性动作的价值 , 只要能够度过2023年 , 其影响力势必会上升到另外一个层次 。
第一个重要决策就是签订供货协议 , 迫于压力之下 , 美半导体放开了一年的授权 , 允许ASML、台积电、英特尔等布局中国市场 , 虽然说是放开 , 但明里暗里的事也说不准 , 而中芯国际就抓住了这个机会 。
根据公开的数据显示 , 授权一放开ASML就和中芯国际达成了采购协议 , 订单的总价值将近12亿美元 , 虽然没有公布具体的合作细节 , 但根据中芯现阶段的发展方向 , 可以断定为是DUV光刻机 。
也正是因为这样一个动作 , 帮助中芯国际赚取了先机 , 光刻机的制造时间是很长的 , 按照ASML的习惯 , 是接收到订单之后才开始生产制造 , 因此并没有多余的库存 , 往往出货时间会被拉长到1-2年 。
但对于现阶段的中芯国际而言 , 可等不了这么长的时间 , 刚好借助ASML想要全面进入中国市场的决心 , 将后续的DUV产能一并揽入怀中 , 而其采用的方式也非常的聪明 。
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