根据SEMI数据 ， 5nm制程芯片所需使用的刻蚀次数高达160次 ， 较14nm提升150% ， 直接增加了刻蚀工艺的资本支出 ， 刻蚀设备在晶圆厂产线中的价值占比正在不断提升 。

文章图片
根据Gartner数据显示 ， 2015年至2017年 ， 等离子刻蚀设备市场规模复合增速为17% ， 超过其他前道设备市场增速 。 目前 ， 存储器件正从2D向3D结构转变 ， 逻辑器件向3nm等技术节点发展 ， 这些工艺的变化使得等离子体刻蚀设备成为更关键的设备 ， 其市场增速超过光刻机和其他前道设备 。
3DNAND层数的增加要求刻蚀技术实现更高的深宽比 。 集成电路2D存储器件的线宽已接近物理极限 ， NAND闪存已进入3D时代 。 3DNAND制造工艺中 ， 增加集成度的主要方法不再是缩小单层上线宽而是增加堆叠的层数 。
刻蚀要在氧化硅和氮化硅一对的叠层结构上 ， 加工40：1到60：1的极深孔或极深的沟槽 。 根据东京电子的统计 ， 3DNAND中刻蚀设备的支出占比达到50% ， 远高于此前工艺NAND的15% 。

文章图片
问题天生就是用来解决的

• 金牌|创造历史夺中国第三金！天才少女谷爱凌咬住金牌庆祝胜利
• 三星|年销2.7亿台手机，却在中国市场一败涂地，三星在华为何不受宠？
• meta|美国Facebook股价大跌，竟怪中国公司发展太快，还称将启动制裁
• 三星|占比68%，国产围剿三星，中国牌一路高歌，不给印度厂商留机会
• 小米科技|联发科夺得中国销冠，高通稳居第二，华为海思却过得格外寒冷
• 苹果|新增11家中企，印度越南“世界工厂”梦碎？库克、郭台铭重回中国
• 2g|美国求3次购被拒，一点不比光刻机差，中国3D金属打印傲视全球
• 本文转自：中国日报网举世瞩目的北京第二十四届冬季奥林匹克运动会开幕式于2月4日晚在国家体...|西工大用绿色科技助力北京冬奥会
• 宇宙|中国移动：元宇宙概念尚处于发展初期 将积极关注
• 本文转自：中国网随着2022翻开全新的里程篇章|日立以科技之光，开启2022全新生活篇章