芯片|日媒：今春启动对华芯片封锁管制，难道日本也可以封锁我国芯片？( 三 ) 半导体|光刻机|光刻胶|it芯片

3、掩膜版

掩膜版也称光罩，是光刻工艺所使用的的图形母版，是连接芯片设计和制造的关键材料。

掩膜版主要由基板、光学膜、不透光材料组成。
掩膜版生产商分为两种，一种是晶圆厂自行配套，例如：台积电、英特尔、三星、中芯国际。另一种是第三方独立的掩膜版，例如：日本凸版印刷、大日本印刷、福尼克斯等。
在第三方独立掩膜版市场中，日本凸版印刷拿到了31.4%的市场份额，排在第一位；第二位是夫尼克斯，占比28.6% ，第三位是大日本印刷，占比22.9% 。
可以看出，日本两家企业占比就超过了50% ，如果加上其他日企，占比将高达76% 。
在CMP粉浆领域，日本企业的份额占比达到了80%以上，高纯度液体领域，日本企业占比同样超过了50% 。

总的来说，日本企业在硅晶圆、掩膜版、光刻胶、CMP粉浆、高纯度液体、陶瓷板、封装材料、 TAB、塑料板、 COF、靶材料、引线架和焊线的市场份额均超过了50% 。
如果，日本拒绝出口半导体材料的话，全球芯片市场基本就歇菜了。
第二种、半导体设备我们都知道光刻机龙头ASML ，这家公司垄断了EUV、DUV光刻机，成为了光刻机的代言人。
但是，光刻机只是半导体制造的一种设备，整个半导体产业还需要涂覆、CVD、检测、清洗等十几种设备，这些设备大都由日本企业制造。
先来谈一谈光刻机

光刻机是芯片制造最关键、最核心的设备，也是技术难度最大的设备，一台EUV光刻机售价就高达12亿，可以想象有多么复杂。
目前，用于7nm以下芯片的EUV光刻机被ASML垄断，仅此一家，再无分店。
DUV光刻机可以制造10nm以上的芯片，市场占有率高达80% ，应用场景远超EUV光刻机。
DUV光刻机目前90%的份额被ASML垄断，剩余的基本被日本尼康拿下。

也就是说，日本尼康拥有制造浸没式DUV光刻机的能力，这个能力仅在ASML之下。
而国内上海微电子制造的90nm光刻机，仅能够生产90nm的芯片，落后尼康的DUV光刻机4代。
如果，我们买不到ASML的光刻机，尼康将是最好的选择。如果两家都拒绝出货，那么我们只能退到45nm、甚至90nm工艺了。
其他设备

用于涂覆显影的设备被日本东京电子垄断，加上其他日企的份额，整体达到了92%；
热处理设备也称为“纵型扩散炉” ，日本企业拿到了93%的市场份额；
单片式清洗设备，市场份额达到了63% ，清洗设备达到了86%的市场份额，测长SEM的市场份额为80%等。
那么这些设备有多重要呢？

举个例子：三星在柔性屏幕方面长期位居世界首位，但它的设备却是由日本制造的，没有这些设备，三星的屏幕也会大打折扣，甚至是造不出来。
总的来说，这些设备对于芯片制造来说同样很重要，如果日本拒绝出口，那么将付出大量的人力、物力、财力、时间来制造这些设备。
写到最后
日本在半导体材料及设备领域取得巨大的、如此优秀的成绩，当然这些成绩付出极大的心血及时间。
日本企业更专注于高端技术，并善于领用这些技术，并且取得了大量的知识产权，形成了压倒性优势。这一点，是非常值得我们学习的。
此次，日本加入对我国芯片限制的阵营，这将对我们的半导体设备、材料形成巨大的压力。
但很多时候，动力源自于压力，如果我们潜下心来，专注技术、利用技术，相信必然会取得比日本更大的、更多的成绩。届时，芯片难题迎刃而解。