光刻机|为让中国、日本厂商生产不出EUV光刻机,ASML设了好几道坎

光刻机|为让中国、日本厂商生产不出EUV光刻机,ASML设了好几道坎

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光刻机|为让中国、日本厂商生产不出EUV光刻机,ASML设了好几道坎

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EUV光刻机有多重要 , 相信了解芯片产业的人都清楚的 , 因为只要进入芯片7nm工艺就必须用EUV光刻机 。
而EUV光刻机目前只有ASML一家能够生产 , 其它的光刻机厂商 , 像日本的尼康、佳能 , 中国的上海微电子都无法生产 。

那么问题就来了 , 如果说上海微电子起步晚 , 技术有点落后 , 还生产不了EUV光刻机 , 那为何历史比ASML更久的尼康、佳能 , 它们各种技术、设备也不受限 , 为何也生产不了EUV光刻机?
原因在于ASML在生产出EUV光刻机后 , 给其它厂商设了几道坎 , 这几道坎就限制住了其它厂商顺利的生产EUV光刻机来 。

EUV光刻机有三大核心技术 , 一块是曝光光源 , 也就是极紫外线的产生 。 第二块就是对准系统 , 也就是如何将产生的紫外线收集起来 。 第三部分才是光刻等技术的整合 。
在第一部分、第二部分这里 , ASML是设置了坎的 , 其它厂商如果突破不了这个坎 , 就生产不了EUV光刻机出来 。
先说是曝光光源 , 也就是极紫外线 , 这里ASML先是收购了美国企业Cymer , 后来又与德国的TRUMPF独家合作 , 这就保证了EUV光线的产生技术只有ASML有 , 不向ASML之外的厂商提供 。

再说说对准系统 , 就是将产生的紫外线收集 , 这里是德国的蔡司半导体提供整体的方案 , 还提供后续所有镜头 , 而ASML与蔡司在这一块也是独家合作 , 蔡司不向另外的企业提供这项技术 , 而目前没有任何其它厂商能够达到蔡司的这个水平 。
所以从第一、二部分就注定了EUV光刻技术 , 暂时只能掌握在ASML手中 , 除非其它企业在这两块 , 能够达到TRUMPF、蔡司的技术 , 但目前还真没有 。
【光刻机|为让中国、日本厂商生产不出EUV光刻机,ASML设了好几道坎】此外 , 在下游厂商上 , ASML也是将台积电、三星、英特尔变成了股东 , 这样保证了这些厂商买EUV光刻机 , 只从ASML买 , 毕竟大家需求有限 , EUV光刻机市场就这么大 。

所以ASML就是先从上游的供应链 , 将技术掌握在自己手中 , 让其它光刻机厂商得不到技术 , 生产不出EUV光刻机 。
然后再从下游客户 , 将客户掌握在自己手中 , 让其它光刻机厂商不敢轻易生产EUV光刻机 , 因为去掉这些主要客户后 , 市场需求就不太够了 , 就算其它厂商最终生产EUV光刻机也是亏本生意 , 所以两方面着手 , 设置了几道坎 , 让EUV光刻机只有自己能生产 。