由于起步晚、长期依赖进口等多种原因，此前我国芯片产业的自给率大约只有16%左右，这导致华为等中企被老美切断代工渠道之时，国内市场无法给予有效的帮助，只能默默忍受着“卡脖子”之痛。

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光刻机作为芯片制造的核心设备，是我们最大的短板。而全球能生产EUV设备的，只有荷兰光刻巨头ASML。在我国决定自主造芯的关键时刻，ASML若是能倒向我们，那一切就都容易多了。不过很可惜，产线上含有约20%美系技术的ASML，最终选择遵守老美所谓的出口管制规则，不向国内市场出口EUV。没办法，我们若想实现芯片国产化，就必须先跨过“光刻藩篱”。令人气愤的是，不能给我们提供帮助的ASML，居然在此时泼来冷水，表示即便把图纸给我们，也造不出光刻机。

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这显然是在打击国内市场自主研发光刻机的信心。庆幸的是，中科院、清北高校等国内科研机构并没有因此退缩，而是本着缺什么就造什么的原则，义无反顾的投入到了关键技术设备的攻关之中。正如王传福所说，再尖端的产品也是人造的，而非神造的。既然海外能做到，那么我们就没有理由做不到，且一定要做得更好。果然，经过一段时间的沉淀，国内市场在光刻领域开始突飞猛进、全面开花！

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在高端光刻设备方面，唐传祥带领的清华科研团队突破了EUV最核心的光源技术；中科院旗下的上海“光机所”在高端光刻设备的分辨率领域，提出了具有变革性的OPC技术。在中低端光刻设备方面，上海微电子从90nm一路研发到了28nm，且完成了技术检测与认证，预计年底前就将下线商用。值得强调的是，这款不含美系技术的光刻机，其曝光精度与ASML的DUV光刻机在同一范畴内。

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我们在光刻领域所取得的研发成果，让荷兰ASML始料未及，此前泼冷水的它估计怎么也想不到，打脸居然来得这么快。更让人始料未及的是，不看好我们能自研光刻机的ASML一改此前“看热闹”的态度，开始示好我国市场，并表示要加大投资布局，保持与中企的密切合作。

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这很符合海外企业的特点，当有求于他们之时，要么打死不卖、要么哄抬物价；在我们即将量产之时，就立刻放低姿态，开始讲合作的重要性，甚至是低价倾销。事实也的确如此，仅今年的第一季度，ASML就往国内销售了11台光刻机，而近日更是表态，要卖给我们大批光刻机，而且还是降价交易。

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ASML不仅改口改得很现实，而且所做出的举动更现实。因为在我们自主可控的光刻机即将落地之时，它明白，现在如果还端着，以后可能就真的就没机会卖给我们了。更重要的是，它想抢占国内光刻市场，从而挤压我们国产光刻企业的发展空间，以保证它在光刻领域的地位和唯一性。要知道，我国是全球最大的半导体消费市场，一旦在光刻领域实现了崛起，即便是ASML，也很难与我们抗衡。在国内光刻市场突破瓶颈的关键时刻，ASML的转变，对国内芯片企业来说将是会是一个定力的考验。
【 老美|打脸来得这么快，国内光刻市场全面开花，ASML的改口很现实】