第三,Micro LED由于其自发光,低功耗,高亮度,超高分辨率,小尺寸,高色彩饱和度等方面的优势,成为LED未来发展方向。从全球Micro/Mini LED全球专利申请情况来看,目前该领域相关专利总量超过2500件,有效专利超过900件,其中中国是这一领域的研究主导者,专利申请数量占比达到40.78%,全球领先。主要的专利申请人包括Facebook(Meta)、苹果、歌尔股份、京东方、三安光电等。
目前,Micro LED的创新主要聚焦在巨量转移技术的突破上。例如2019年,苹果提出利用光束寻址释放(BAR) 巨量转移技术,一次转移多个Micro LED(专利号US20200194616A1);2020年,三星提出在目标基板和激光振荡器之间布置转移基板,转移基板上布置有一行/一列不同颜色的Micro LED器件,向目标基板辐射激光束以完成Micro LED的巨量转移(专利号US20200335659A1)等。
GaN创新龙头企业技术分析
日本住友
住友株式会社在GaN领域的专利储备可以说具有绝对优势。1970年代开始申请GaN相关专利,2003年该公司在全球率先量产GaN衬底,2006年再次率先量产高性能GaN HEMT(高电子迁移率晶体管),目前是全球GaN射频器件的主要供应商,强大的专利布局在一定程度上支撑了其后来的商业成功。
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资料来源:智慧芽
住友GaN技术储备从专利分布来看,主要聚焦在衬底和器件研究,可见光LED、GaN基FET器件、激光二极管、GaN单晶生长技术专利布局较多,近5年更侧重GaN基FET器件。在GaN基FET器件领域,住友探索的技术方向较多,布局热点包括外延工艺、芯片工艺、改善击穿电压、减小漏电流、抑制电流崩塌、改善2DEG结构等,较缺乏的是改善结构缺陷、改善导通特性等方面的专利。
值得注意的是,目前住友的GaN失效专利占比过高,达到了60%左右。
美国CREE(Wolfspeed)
CREE是美国早期发力GaN和SiC技术的主要企业之一。1998年,该公司推出首个SiC基GaN HEMT,2019年和2021年,CREE完成照明和LED业务的出售,完全蜕变成一家以宽禁带半导体产品为主的公司。2021年更名为Wolfspeed并于纳斯达克上市。
CREE聚焦于GaN-on-SiC技术路线,从1991年开始申请GaN-LED相关专利,1998推出SiC基GaN-HEMT器件后专利申请迎来第一次快速增长,2008年推出首个GaN射频器件,迎来第二次快速增长。该公司在GaN领域的专利超过3000件,有效专利占比接近52%。
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资料来源:智慧芽
随着CREE剥离LED业务后,其GaN研究重点同样转向GaN基FET器件,目前在该领域专利总量达到696件,有效专利430件,布局重点为减小漏电流、增大击穿电压、改善线性度、提高GaN层晶体质量、减少半导体刻蚀损伤、降低表面捕获效应等,较缺乏的是提高增益、延长使用寿命等方面的专利。
德国英飞凌
英飞凌是全球领先的功率半导体企业,1997年左右开始申请GaN激光二极管、GaN层生长技术相关专利,2014年通过收购IR取得其Si基GaN功率半导体制造技术,专利数量快速增长,且授权率较高。目前GaN领域专利超过1400件,有效专利占比高达61.5%,技术创新度高。
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资料来源:智慧芽
英飞凌在GaN领域集中在中游-器件模组的研究,包括GaN基FET器件以及由多个功率元器件集成的功率模块(如电源转换器)的研发,在功率模块、GaN基FET器件上布局的专利最多。布局重点包括改善散热、降低功率损耗、提高工作电压、减小封装尺寸、降低集成器件产生的寄生电感和电容、改进双向开关特性等,较缺乏的是短路保护、过压保护、静电保护等方面的专利。
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