只不过 ， 超分辨率光刻机进入验收阶段 ， 依然颇为鼓舞人心 ， 这意味着国内在实现高分辨的纳米光刻研发路线上 ， 成功完成了对高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦以及间隙测量和超精密等关键技术的突破 ， 闯出了一条绕开国外知识产权壁垒和阻碍的新路子 ， 形成了光刻机生产新模式 。
事实上 ， 不仅仅是国内 ， 在中国超分辨率光刻机之外 ， 美国的电子束光刻机 ， 日本的纳米压印设备 ， 都在对传统的光刻机技术发起挑战 。
从国内外在绕开光刻机技术的种种突破方向来看 ， 未来的3~5年 ， 将是芯片技术与光刻机技术的变革节点 ， 我们无从得知 ， 什么样的产品与技术路径在未来会最终取得成功 ， 但已经能看到光刻机技术破局的曙光 ， 以及新的潮水的方向 。

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