▲全球光刻机年度销量 ， 2021-2025 年预测
光刻机波长越短 ， 分辨率越高 ， 不断降低波长也成了光刻机研发的首要目标 。 目前最成熟的、应用于深紫外曝光技术的准分子激光器主要有两种 ， 一种是采用氟化氪气体的准分子激光器（KrF） ， 光源波长为 248nm；另一种是采用氟化氩气体的准分子激光器（ArF） ， 光源波长为 193nm 。 而应用于高端制程的 ASML EUV 极紫外光刻机是波长为 13nm 的光辐射 ， 技术壁垒非常高 ， 其他业内公司短期内无法赶超 。
智东西认为 ， 作为全球最大的消费半导体和半导体设备市场 ， 以光刻机为代表的半导体设备一直是中国半导体行业“卡脖子”的关键词和挥之不去的痛 。 但随着清洗设备、薄膜设备等国产设备的不断突破 ， 国产设备在各个高端领域将很快迎来追赶 。

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