国内首台！0.01nm光镜镀膜机投用，可作用于EUV光刻机( 二 ) 国内首台高能同步辐射光源科

文章图片
但是现在就变得容易多了，中科科仪已经可以使用真空镀膜设备将膜厚精度控制在0.1nm（100皮米）以内，实现高精度纳米量级万层镀膜工艺，对于光刻机的镜头制备有着极大的作用，可以提高我国光刻机镜头的水准，我国将能够实现先进制程芯片自主化生产的目标。
EUV光刻机三大核心部件全部攻克，高端芯片制程不是梦！
EUV光刻机主要分为三大核心部件，即EUV光源、EUV光学镜头以及双工件台。目前我国已经将两项攻克完成， EUV光学镜头目前正在攻克之中，而且中科科仪已经可以使用真空镀膜设备将膜厚精度控制在0.1nm（100皮米）以内，实现高精度纳米量级万层镀膜工艺， EUV光学镜头将不是问题，等到EUV光刻机三大核心部件全部攻克，高端芯片制程不是梦。

文章图片
之前我国的芯片企业一直受到国外的制约，因为处处受制于人，所以损失也就比较大，这都是源于我国在先进的芯片制造设备缺乏，又不能研制出先进的设备，所以，极为无奈又被动。
如今，只要等到EUV光刻机三大核心部件全部攻克，那么就能和过去受制于人的日子说再见了，中国的芯片必然要崛起，相信这一天的到来不会太远。
写在最后
两项重大科研突破，为我国的芯片事业的发展直接加上了核动力，定然会加速推动我国的芯片事业的发展进程，假以时日，未必不能赶超世界的先进水平。对于我国芯片事业的发展前景，诸位有什么看法，欢迎留言！返回搜狐，查看更多
【国内首台！0.01nm光镜镀膜机投用，可作用于EUV光刻机】责任编辑：