光刻机|关于新一代EUV光刻机,ASML摊牌了

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目前 , 全球面临最大的问题可能有两个 , 一个是不断变异的病毒 , 另外一个就是芯片 。 当下全球缺芯的情况依然是十分严重 。 而要想解决这个问题 , 其中的关键 , 重中之重就是光刻机 , 特别是EUV光刻机 。

最近 , 阿斯麦尔又开始酝酿新动作 , 准备要研发生产出一台比当下更先进的EUV光刻机 。 那么 , 作为目前光刻机的全球垄断巨头 , 阿斯麦尔为什么还需要研发出更加先进的高端光刻机呢?未来 , 如果阿斯麦尔成功的话 , 对于阿斯麦尔又将会带来怎样的影响呢?
新一代EUV光刻机或将横空出世在2019年的时候 , 阿斯麦尔公布了一份年报 , 在这份年报中 , 阿斯麦尔表示 , 正准备研发新一代的EUV光刻机 , 预计在2022年初开始出货 , 到2024年或者2025年实现大规模量产 。

但是 , 最近阿斯麦尔似乎有点急不可耐 , 对于这新一代的EUV光刻机 , 阿斯麦尔表示 , 将会提前一年 , 也就是2023年实现量产 。 除此之外 , 阿斯麦尔甚至还透露 , 这台全新的EUV光刻机售价可能会超过三亿美元 , 预计到时候 , 这台新一代EUV光刻机的售价将会是当下EUV光刻机的三倍 。
当然 , 价格贵也不是没有道理的 , 毕竟把根据阿斯麦尔表示 , 这台新一代EUV光刻机不仅能将生产制程提升到1纳米以下 , 甚至还有可能也会增加更大的曝光量 , 提高芯片的产能 。

那么 , 在全球范围内 , 阿斯麦尔的光刻机依旧是世界第一 , 那么 , 为何阿斯麦尔这个时候却想着要不仅要研发出新一代更加先进的EUV光刻机 , 甚至还要提前一年实现量产呢?
阿斯麦尔为何要研发更先进的高端光刻机?首先 , 我国在光刻机上面突破的成就
自从进入21世纪 , 特别是近几年来 , 我国在高端科技方面取得了许许多多惊人的发展和进步 。 在光刻机方面 , 我国也是丝毫不逊色 。 目前我国的上海微电子已经成功突破了DUV光刻机技术 , 估计应该很快就能实现量产 。

这样的成就在全球范围内可能都是独一份的 , 因此 , 阿斯麦尔可能担心我国凭借着自身强劲的科研能力 , 会不断削弱阿斯麦尔的优势 。 因此 , 想要尽可能研发出更加高端的技术 , 以此来应对来自我国的威胁 。
其次 , 巩固光刻机垄断地位的需要
阿斯麦尔之所以能有今天这样的发展 , 其实基本上都得益于阿斯麦尔在光刻机领域的垄断地位 。 但是 , 如今科技的发展日新月异 , 当下EUV光刻机确实很先进 , 但是难保未来就不会落伍 。 难保未来 , 阿斯麦尔是否还能依靠着EUV光刻机保持着自己一直以来的垄断地位 。

因此 , 为了以防万一 , 为了巩固自己在光刻机方面的垄断地位 , 阿斯麦尔研发更先进的光刻机其实也很正常 。
最后 , 增加自己营收的需要
如今 , EUV光刻机无法实现自由出货 , 给阿斯麦尔的经济营收带来了很大的影响 , 未来 , 阿斯麦尔新一代EUV光刻机虽然应该依旧也没有办法实现自由出货 。 但是 , 这种新一代的EUV光刻机在价格上是目前EUV光刻机的三倍 。