极紫外光刻|30步工艺缩减为3步:Intel全面拥抱EUV光刻!

text":"与台积电、三星相比 , Intel这几年在半导体工艺上放慢了脚步 , 这里面原因有很多 , 不过一个重要因素就是Intel一直认为EUV光刻工艺不成熟 , 他们追求的是在没有EUV光刻机的情况下开发7nm甚至5nm工艺 , 结果耽误了时间 。
面对对手在EUV光刻上的领先 , Intel现在也加快脚步了 , 原先叫做7nm的节点现在改名为Intel 4 , 这是Intel第一个使用EUV光刻机的工艺 。
日前在接受媒体采访时 , Intel逻辑工艺开发总经理Sanjay Natarajan确认 , Intel已经确认EUV光刻工艺可以达到用于生产的地步 , Intel也会迅速转向该工艺 , EUV可以简化很多工艺流程 , 将30步工艺减少为3步操作 , 降低了出错的可能 。
Sanjay Natarajan确认 , Intel第一代EUV光刻的处理器会在2023年出货 , 桌面版是Meteor Lake , 服务器端则是Granite Rapids处理器 。
【极紫外光刻|30步工艺缩减为3步:Intel全面拥抱EUV光刻!】Meteor Lake处理器大家很熟悉了 , 这就是2023年要发布的14代酷睿 , 除了EUV工艺之外 , 还会使用先进的3D封装 , 分为多个模块 , 其中CPU计算模块的IP已经tape in , 今年底或者明年初应该就流片了 。
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