京东方|新一代革命性EUV光刻机提前登场！价格翻番：Intel抢破头传感器

text":"在上月的ITF大会上，半导体行业大脑imec（比利时微电子研究中心）公布的蓝图显示， 2025年后晶体管进入埃米尺度（? ， angstrom ， 1埃 = 0.1纳米），其中2025对应A14（14?=1.4纳米）， 2027年为A10（10?=1nm）、2029年为A7（7?＝0.7纳米）。
当时imec就表示，除了新晶体管结构、2D材料，还有很关键的一环就是High NA（高数值孔径）EUV光刻机。其透露， 0.55NA的下代EUV光刻机一号试做机（EXE:5000）会在2023年由ASML提供给imec ， 2026年量产。
不过，本月与媒体交流时， ASML似乎暗示这个进度要提前。第一台高NA EUV光刻机2023年开放早期访问， 2024年到2025年开放给客户进行研发并从2025年开始量产。
【京东方|新一代革命性EUV光刻机提前登场！价格翻番：Intel抢破头】据悉，相较于当前0.33NA的EUV光刻机， 0.55NA有了革命性进步，它能允许蚀刻更高分辨率的图案。
分析师Alan Priestley称， 0.55NA光刻机一台的价格会高达3亿美元（约合19亿），是当前0.33NA的两倍。
早在今年7月， Intel就表态致力于成为高NA光刻机的首个客户， Intel营销副总裁Maurits Tichelman重申了这一说法，并将高NA EUV光刻机视为一次重大技术突破。
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