原子弹和光刻机到底谁更难：其实都不难，关键还是在态度( 三 )

这个技术方向就是日本和欧美攻克了十年都没有解决的难题：极紫外EUV光刻机的技术开发。
极紫外光刻的原理是20世纪80年代由日本人提出并验证的，但如何实现低成本量产，是摆在日本和欧美各国半导体业界面前的巨大难题。
作为世界第一的科技霸主，美国当然不会坐视日本芯片产业的崛起。
出于国家安全和商业利益的考虑，为了让美国在半导体行业获得优势地位，在下一代半导体制程上把日本芯片企业赶出局。
从极紫外EUV光刻机入手，美国政府和业界专门成立了复仇者联盟，应该叫做EUV联盟，由英特尔、AMD、摩托罗拉和IBM等业界巨头，加上隶属美国能源部的桑迪亚国家实验室和劳伦斯利弗莫尔国家实验室组成，共同攻克生产设备的难题。
而欧洲30余国也紧跟美国之后，集中科研院所的研究力量，参与了EUV光刻技术的开发。
荷兰阿斯麦公司作为掌握光刻机系统集成和整体架构的核心企业，自然成了欧美自家的小棉袄，顺利赶上了欧美EUV技术研究发展的风口。
投资德国卡尔蔡司，收购美国Cymer光源，风光无限，最终集成世界各国顶级科技的EUV光刻机在阿斯麦研究成功，一举奠定了在高端EUV光刻机领域的垄断地位。
EUV光刻机的精密程度是人类科技水平的顶尖集合，已经达到了给你图纸也无可复制的地步。

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当前阿斯麦成为世界上唯一拥有ＥＵＶ光刻机生产能力的厂商，以波长13.5ｎｍ的极紫外光作为光源，可以实现7纳米以下制程的芯片加工。
当前苹果和华为等旗舰手机的5纳米制程芯片，都是由阿斯麦ＥＵＶ光刻机生产的。
而昔日的竞争对手日本尼康和佳能，面对欧美的技术壁垒和巨额的研发投资，只能望洋兴叹。
谁让不是人家亲生的，就算起个大早，还是没赶上集。
从上世纪六十年代，第一块集成电路问世之后，我们国家就开始了光刻工艺的研究。
但八十年代，随着“造船不如买船，买船不如租船”说法的流行，同时也因为缺乏相应的芯片产业链，很多自主攻关项目纷纷落马。
目前，我国光刻机主要的生产厂家是上海微电子，已经实现了９０ｎｍ制程的量产化，２８ｎｍ工艺的国产光刻机也预计会在２０２１年交货。

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虽然和国际领先的５ｎｍ还有几代差距，但是已经可以基本满足国内芯片市场的中端需求。
回顾荷兰阿斯麦光刻机的称霸之路和日本半导体界的败局，可以获得很多经验。
虽然高端光刻机比原子弹还难造，但这一次我们已经不再是一穷二白。中国半导体产业在光源以及刻饰机等领域已经达到国际先进水平。
我们要反思失败，学习阿斯麦专注光刻机技术，发展合作共同体的经验，集合国内科研院所和优秀半导体企业，发挥我国集中力量办大事的光荣传统，刻苦钻研，一定会走向成功。
最近恒大的新能源汽车恒驰横空出世，而且一下子出来了６款，要知道特斯拉到现在也不过才有４款车型，所以恒驰值得期待。
恒大的许家印就曾说：“要么不做，要做就要做大做强做成功。”
至于光刻机，同样如此，要做就要成为世界顶尖，我们也相信国内的高端光刻机一定会捷报频传。

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