在光刻机领域内|为了自由出货？ASML做出了两个改变在光刻机领域内

在光刻机领域内，技术最先进的厂商是ASML ，因为ASML研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场。
尤其是EUV光刻机，目前仅有ASML能够研发制造，生产制造5nm等制程芯片， EUV光刻机是必不可少的设备。
也就因为EUV光刻机技术先进，很多芯片制造企业都下单购买，结果导致EUV光刻机供不应求。

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例如， ASML大约出货了100台EUV光刻机，这些EUV光刻机一半左右都出货给了台积电，所以台积电先进制程芯片的产能全球第一，良品率也高。
剩下的50台积电EUV光刻机则出售给了三星、英特尔等厂商，尽管如此，但台积电、三星等厂商仍想要大量的EUV光刻机。
最主要的是，根据ASML发布的信息可知， ASML积压了几十亿欧元的EUV光刻机，而EUV光刻机在2021年的产能仅有45台，上半年已经交付了20台。

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在这样的情况下， ASML也做出了两个改变。
第一个改变，提升EUV光刻机的产能。
就目前而言， EUV光刻机已经供不应求，除了让三星使用翻新的EUV光刻机外， ASML还积压了几十台EUV光刻机订单。
面对这样的情况， ASML不得不提升EUV光刻机的产能，计划今年下半年交付25台EUV光刻机，比上半年多出5台。
另外， ASML还计划在2022年和2023年分别生产制造55台和60台EUV光刻机，缓解供需紧张的问题。

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第二个改变，加速E光刻机技术升级换代。
ASML除了提升EUV光刻机的产能外，其还在加速EUV光刻机技术升级换代。
目前， ASML主力出货机型为NXE:3400CEUV光刻机，每小时处理晶圆数不低于170片。
但ASML已经交付了首台升级版的NXE:3600DEUV光刻机，相比NXE:3400C而言，其效率提升了15%到20% 。
另外， ASML还研发了全新一代EUV光刻机，其代号是NXE:5000系列，物镜NA提升到0.55 ，预计在2023年下线商用，可用于生产制造3nm、2nm等芯片。

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要知道， ASML对EUV光刻机技术升级换代，自然能够提升芯片产能，降低厂商对EUV光刻机数量的需求，解决EUV光刻机产能不足的问题。
ASML做出两个改变，是为了自由出货？
ASML的光刻机技术先进，而EUV光刻机在全球范围内，目前是没有竞争对手的，而ASML一直都希望销售更多EUV光刻机，以获得更多的营收和利润。
但由于老美修改规则，导致ASML无法自由出货EUV光刻机，尽管ASML都发出了警告，但至今没有拿到自由出货许可。

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如今， ASML做出两个改变，而这个大改变也是为了自由出货。
要知道， ASML的EUV光刻机不能自由出货，主要是因为技术先进和产能低，导致其没有普及，一旦实现普及， ASML或许自然就能够实现自由出货了。
就像DUV光刻机，其已经实现了普及，而ASML的DUV光刻机也基本上实现了自由出货，所以ASML提升EUV光刻机产能是利于自由出货的。
另外， EUV光刻机是目前ASML最先进的技术，集合了40多个国家的顶尖技术，一般情况下，凡是非最先进的技术，美都允许ASML自由出货， DUV光刻机就是例子。

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而ASML加速EUV光刻机升级换代，还在努力生产制造全新一代NXE:5000系列EUV光刻机，相比现有型号NXE:3400CEUV光刻机而言，其是巨大的进步。