1.8nm！清华大学立功，国产EUV光刻机完成最后一块拼图近年来

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近年来，在中国科技不断取得突破的同时，以美国为首的西方国家开始坐立不安，开始不断打压我国科技企业，企图限制我国科技崛起的速度。在老美的这些打压手段中，芯片的封锁严重制约了我国科技企业的发展。
【1.8nm！清华大学立功，国产EUV光刻机完成最后一块拼图】华为海思等国内芯片设计企业拥有世界顶尖的芯片设计能力，中芯国际等也掌握着较为成熟、先进的芯片制程工艺，且国内企业发展所需的芯片，尤其是高端芯片，严重依赖进口。

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据有关部门公布的信息显示，我国芯片的自给率不足30％，每年进口的芯片规模高达3500亿美元，成为第一大进口商品。在我国科技还未能威胁到美企行业话语权之前，我们可以随意的进口芯片，但只要我们出现崛起的迹象，老美就会切断国内企业的“命根子” ，限制我们企业的发展。
国内企业要想实现发展独立，摆脱被人鱼肉的命运，就必须加大科研投入，实现技术独立，尤其是芯片独立，而要想实现这一点，就必须拥有EUV光刻机。

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为了限制我国科技的发展，早在几十年前，以老美为首的西方国家就签订了一个名为《瓦森纳协定》的条约，禁止向我国出口一切高端技术和设备，这也直接导致了国内半导体制造企业无法采购ASML公司制造的EUV光刻机，让我们暂时不具备制造高端芯片的能力。
所以，我们要想独自制造高端芯片，就必须研制出国产EUV光刻机。所幸的是，在中国科学家的努力下，终于完成国产EUV光刻机的技术拼图！

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对光刻机有一定了解的朋友都知道， EUV光刻机是由EUV光源、光学镜头和双工件台三大核心组成，这些技术曾被美、日和欧洲国家垄断，现如今，我们也拥有了。
6月底，中科院高能所承建的国内首台高能同步辐射光源设备安装完成70％，为清华大学研发的EUV光源技术转为商用打下坚实的基础。
与此同时，中科科美研制的精度高达0.1nm的镀膜装置正式投入使用，解决了物镜生产的难题。

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然而，让西方科技界没想到的是，中国科学家在短时间内再次突破双工件台，打破尼康株式会社的社长“中国科学家无法拿下工件台”的诅咒！
据媒体报道，华卓精科与清华团队在去年就研制出了双件工作台，经过近一年的技术改进，双工件台的精度达到了1.8nm ，无论是技术，还是精度，都与ASML公司不相上下。
据知情人士透露，上海微电子研制的28nm光刻机采用的就是华卓精科的双工件台。

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华卓精科研制出高精度双工件台的消息一经传出，瞬间惊动全球，纷纷表示：中国独自研制的EUV光刻机不久之后就能面世，到时候，老美将会为封锁中国企业芯片付出惨重的代价。
中国科学家是世界上最聪明的一群人，美半导体行业60％以上的技术大拿都来自清华、北大等中国高校，只要这些人能够回国，美芯将倒退三十年，而“中国芯”的发展将会步入快速发展期！对此，你有什么看法呢？