asml|国产光刻机全线突破，ASML可惜了光刻机|芯片|it芯片

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光刻机作为芯片制造的核心设备，一直是我国半导体产业中最大的短板，虽然上海微电子也能够生产光刻机，但此前只有90nm的技术水平，很难满足中高端芯片市场的制造需求，与荷兰光刻巨头ASML相比，差距更是一目了然。

在老美实施芯片禁令之后， ASML就被限制了对华市场的自由出货，在这样的情况下，我们若想实现芯片的国产化，就必须先越过“光刻壁垒” ，换句话说，光刻机这项核心制造设备，关系着中美科技竞争的最终走向，其重要性不言而喻。
也正是由于这个原因，中科院、清北高校等科研机构纷纷跑步入局光刻技术的研发，并成立专项技术攻关小组，力争在最短的时间内完成突破；上海微电子等设备厂商也不甘落后，积极地强化光刻业务。

尽管ASML和吴汉明院士都不看好我们自研光刻机，而且台积电张忠谋还反对我们芯片自给自足，但没想到打脸会来得这么快，中高端光刻设备技术在中国科学家们的努力之下，实现了全线突破！
据媒体报道，上海微电子自研的首台中端国产光刻机已经落地，且完成了检测认证，预计年底之前便可大批商用。

认证组的专家透露，该项国产光刻设备的曝光精度与DUV光刻机在同一范围内，同为浸润式光刻机型，波长均为193nm 。要知道，在EUV光刻机没有诞生之前，台积电就是利用DUV设备、采用多重曝光技术，实现了7nm芯片的量产。
如今中芯国际的FinFET二代制造技术已经成熟，比台积电当初的多重曝光技术更加先进，这意味着，国产芯片制程或将一举迈入7nm市场。
在高端光刻领域，中科院自研的首台高能光源设备已安装完成，结合清华大学的光源粒子加速器“稳态微聚束” ，或能一举解决被老美垄断的“光源技术系统” 。而EUV设备的另外两项核心技术“双工件台系统”、“光学镜头” ，也被华卓精科和中科科美相继攻克。
总体来看，不管是中低端或者高端，国产光刻技术已经实现了全线突破，全线量产也不会等太久。

对此，外媒表示：ASML可惜了。
ASML之所以在光刻市场有着举足轻重的地位，很大程度上是因为它在中高端光刻市场的垄断。不过，随着国产光刻机的量产， ASML将不再具备唯一性，而且，它也将彻底失去中国市场。
对于这样的结果， ASML本来是有可能避免的。尤其是在老美芯片断供之后， ASML曾先后五次示好我国市场，并且表示愿意提供设备支持帮我们加速完善半导体产业链，还会加大在中国市场的投资。

虽然我们不会放弃对光刻技术的自研，但却并不排斥ASML ，反而是非常期待合作，因为ASML可以加速我国在光刻领域的发展。即便是国产光刻技术真的追平了ASML ，届时市场也必定会给它留一份满意的产能。
但很可惜， ASML在倾销给我们57台卖不出去的老旧光刻设备之后，就携带着在中国市场申请的3千项专利转头进驻了美半导体市场，还扬言要帮助老美完善高精度芯片产业链。对于正在爬坡阶段的中国半导体市场而言， ASML的举动显然是无法接受的。
至于老美能否掌握全球高精度芯片产业链，外界的看法几乎一致：它没有这个实力，也没有这个条件。