阿斯麦尔|该来的终于来了，ASML不愿面对的结果出现，外媒：来不及了光刻机|纳米|芯片|it芯片

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文 | C君科技排版 | C君科技

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该来的终于来了， ASML不愿面对的结果出现，外媒：来不及了

芯片制造成为2019年之后，全球主要的技术发展议题，伴随着芯片规则的改变，芯片自主化的呼声越来越高，在这样的场景下，各地区都开始加码芯片产业链的构建，但是在整个芯片产业链构建的过程中，有一项技术似乎很难绕过，那就是光刻机。
由于光刻机零部件众多，涉及到的产业链极为复杂，所以到目前为止全球顶级的光刻机厂商并不多，至于EUV光刻机更是只有ASML一家，这也让ASML公司成为各家芯片制造工厂的“座上宾” ，因为只有获得了更多的EUV光刻机，才能够在高阶芯片的生产供应上占据更大的主动权。

不过， ASML公司并不是一个中立的公司，这一点从2018年中芯国际向ASML下订单，订购EUV光刻机，可是到目前为止，这台EUV光刻机都没有发货就可以看明白。
而在ASML公司暂停了对我们的EUV光刻机的供应后，我们的中科院、清华大学等机构也开始快速加码EUV光刻机的突破工作，力求在短时间内解决掉国内EUV光刻机的空白。

但是，面对着我们在EUV光刻机领域的努力， ASML公司的CEO却给出了一个刺耳的回复，其表示，就算是把图纸给我们，我们也无法制造出EUV光刻机。这话说得非常自负，不可否认， EUV光刻机的制造难度的确很大，但是它并非就是无法被打造的，毕竟任何东西都是可以被制造的，盾构机当年是这样，特高压是这样， EUV光刻机也会是这样。
而在我们加速EUV光刻机技术突破之时，在8月22日，媒体方面传来了一则全新的消息，这则消息的出炉似乎意味着该来的终于来了，因为据悉东京理科大学学者在纳米压印技术研究上取得突破，实现了紫外硬化纳米压印创建10nm一下发不了形貌的突破。

说得简单直白一些就是，利用压印技术能够实现10nm以下芯片在晶圆上的印刻，所达到的效果和光刻机是一样的，其实对于这项技术已经不是第一次听说了，在2021年底的时候，日本公司方面就传来了利用纳米压印技术实现15nm芯片的量产，注意说的是量产而不是实验室研究阶段，这也就是说纳米压印已经可以进入商业应用阶段了，如今短短半年时间，就被推进到了10nm制程以下，足可见纳米压印技术的前景之广阔。

并且需要注意的是，纳米压印技术在成本和实现上都要比光刻机便宜和简单许多，因此这则消息的传来，似乎意味着ASML公司不愿面对的结果出现了，因为从2004年以来， ASML公司在台积电和英特尔的帮助下，好不容易才一步一步利用技术优势走到了全球光刻机龙头的地位，如今却被告知有新的技术可以替代光刻机实现芯片的光刻环节，并且精度已经进入到了10nm以下， ASML自然不想面对。

而纳米压印技术也并不神奇，举个例子来说，纳米压印技术就像是盖章子，雕刻完成印章后，通过印泥可以把印章上的图案印在很多个纸张上，而纳米压印也是一样的道理，通过压印技术，把电路图印在了晶圆上。只不过由于这种压印的方式会让压印模板直接接触压印胶等设备，这会造成压印模板寿命较短，同时由于与压印胶接触，会造成模板污染，继而造成印刻的电路图出现问题。