光刻机|事关国产光刻机，中企新消息传来，ASML不想看到的情况出现了阿斯麦尔

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近几十年， “缺芯少魂”一直都是我国信息产业之痛，也是中国制造之痛，而造成这个情况出现的主要原因，就是我国在相关领域起步较晚，再加上“买不如造，造不如租”的死板观念，让国内企业过于依赖进口，到最后只能处处受制于人。
让人感到欣慰的是，在千亿研发资金的投入之下，华为不负众望推出了自研鸿蒙操作系统，填补了国内在操作系统领域的空白。截止到目前，搭载鸿蒙OS2.0的华为终端设备已经突破了3亿，一举突破了所谓的16%“生死线” ，成为了名副其实的全球第三大操作系统。
【光刻机|事关国产光刻机，中企新消息传来，ASML不想看到的情况出现了】
在半导体芯片方面，光刻机却成了困扰我国多年的难题。要知道，光刻机是生产制造芯片必不可少的高精度设备。可以说，如果没有先进的光刻机设备，那么我国芯片产业就无法继续下去。
在光刻机领域， ASML可谓是一家独大的存在，其生产的DUV和EUV光刻机更是供不应求。特别是EUV光刻机，全球仅有ASML一家可以量产。关键是， EUV光刻机是生产制造7nm及以下制程芯片不可或缺的设备。

然而，由于众所周知的原因，我们无法从ASML手中买到，甚至连外企在中国分厂也受到了限制。早在2018年，中芯国际就斥巨资从ASML手中订购了一台当时最先进的EUV光刻机，但至今都没有到货。
为了改变受制于人的现状，我国开始加大在光刻机领域的布局，誓要攻克之。让人没想到的是，在这个关键时刻， ASML却泼来冷水，称就算把图纸给我们，中国也造不出先进的光刻机。

当然， ASML之所以敢口出狂言也是有原因的。光刻机的制造过程非常复杂，需要全球5000多家供应商提供超过10万个零部件。更重要的是， EUV光刻机的光源是由美国提供的，镜头则是由德国蔡司提供。也就是说，如果我们想要摆脱EUV光刻机的限制，就必须从光刻机光源、镜头和双工作台出发。
让人感到振奋的是，中科院在EUV光源、双工件台方面接连实现突破，而华卓精科也成功研发出光刻机双工作台系统样机，成为继ASML之后第二个可以掌握光刻机双工作台系统的厂商。

然而，随着中企一则新消息的传来，似乎意味着我们离国产EUV光刻机的突破又进了一步，同时也意味着ASML不想看到的情况出现了。
因为就在8月15日，中企传芯半导体正式公开了一项可以用于EUV光刻的曝光成像结构、发射式光掩膜版组及投影式光刻机的新专利。

要知道，上海传芯半导体公司成立于2020年7月，还是一个很年轻的企业。在短短两年的时间内，先后公布了20项有关光刻机的专利，前途不可限量。可以说，相比荷兰ASML来说，我们的企业差的只是时间。
而上海传芯半导体只是国内众多半导体企业中的一个缩影，所以我们完全有理由相信，不管EUV光刻机的制造难道有多大，只要不是神制造出来的东西，我们的企业就一定能够制造出来。届时， ASML在全球市场垄断的局面就会被彻底打破。
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