极紫外光刻|限制EUV光刻机失效后，新一轮冲击随之而来，外媒：老美大势已去( 二 ) 光刻机|芯片|软件|创投圈|it芯

而在EUV光刻机方面，在8月14号的时候也传来了好消息，传芯半导体在曝光成像结构、反射式光掩模版组以及投影式光刻机上申请了专利，核心技术相继突破，芯片制造领域的反击正式打响。
无论是EDA软件、还是EUV光刻机，不可否认都是人类历史上工业设备的“核心” ，想要完全实现技术的自主化，除了要有坚定的意志力之外，还需要有大量资金的扶持。

【极紫外光刻|限制EUV光刻机失效后，新一轮冲击随之而来，外媒：老美大势已去】在国家高度扶持芯片产业之后，关于资金方面是没有什么压力了，外加上有中科院这个“大靠山” ，如果说实现整体技术的攻克还难，但把一项项技术拆分开来，融合全国半导体企业的技术优势，那么一切就会变得容易起来了。
在华为的带动之下，目前国内企业意识到了自主创新的重要性，但显然依靠一家民营企业力量上是不够的，还需要依靠国内的企业启动全产业链布局，真实有效的攻破技术壁垒，才能彻底解决相关限制的困难。

在看到核心技术不断被突破，外加上中国企业的决心之后，外媒也直接表态：“老美大势已去了！”你们是否看好国内的产业布局呢，你们又有什么更好的建议？