日美|打破日美40年垄断!国产企业奋起直追,如今7nm节点被攻克( 二 )
【 日美|打破日美40年垄断!国产企业奋起直追,如今7nm节点被攻克】
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成立于2000年的南大光电目前已经形成了先进躯体材料、光刻胶及配套材料以及电子特气三个业务板块,曾经在2017年以及2018年,获得国家02专项的立项。
此次南大光电带来的这只国产光刻胶,能够验证使用50nm闪存技术平台,在特征尺寸之上,也已经能够满足45-90nm的需求,在业绩说明会之中,南大光电也回到了相关的问题。
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比如年产量能够达到25吨,比如比起日本的光刻胶更加有优势,基本上能够与日本的产品达到同等水平,也实现了arf光刻胶国产化以及本土化,打破了被国外长期垄断的被动局面
国内除了南大光电之外,还有上海新阳、北京科华以及晶瑞股份等等非常优秀的企业,在这场中美科技竞争之中,扮演了主力军的位置。这些企业目前正在不断努力,为中国半导体的发展注入一股力量,我们也有理由相信,在未来,这些企业一定会带给我们更多的惊喜。
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