央视正式确认,光刻机又一关键技术取得突破,国产化迎来利好芯片风波带来的影响已经涉及

芯片风波带来的影响已经涉及众多科技企业，华为被制裁的场景历历在目，从未敢忘。即便是前段时间，华为刚刚发布的旗舰机P50 ，也只能够使用落后的4G芯片，所以解决核心问题刻不容缓，就致力于半导体领域的发展，丝毫不敢懈怠，许多国产企业也纷纷加入其中。国产芯片已经成为科技行业的目标之一，但是芯片制造的核心设备光刻机却成为最难解决的问题，导致我国半导体为此苦恼，迟迟没有前进。

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说到光刻机，全球最顶尖的光刻机生产商就是荷兰ASML ，这家企业的客户更是全球互联网巨头，可想而知，其国际地位以及影响力有多高。但他对中国的态度却十分恶劣，公开放话称，就算将光刻机设计图纸给中国，中国也造不出来。确实， EUV光刻机的零部件就高达10万件，并且来自全球各个国家，仅凭一己之力很难完成。

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但即便如此，我国也不会放弃，现在除了自主研发已经无路可选。国内对光刻机的各个核心技术都在不断研究，上海微电子更是肩负重任。一个又一个的突破已经让我们有充足的把握将光刻机制造出来。华卓精科的双工件台，科益虹源的激光技术都将为国产光刻机助力。并且，有消息透露，中国第一台28nm浸润式国产光刻机也将在今年量产。

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近段时间，央视又传来好消息，中国第一台高能光源设备技术已经被攻破，并且进入到了安装阶段。这是在中科院团队的带领下完成的，而且这种光源技术也有望实现解决EUV光刻机的光源核心问题，光刻机国产化也迎来利好。根据消息了解到，这是一项全国产化的光源技术，将来的应用场景也非常广泛。而清华团队所研发的稳态微聚束。也为国产光刻机增加一份力量。

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目前光源技术方面的研发已经非常成功，不久，央视又正式确认，光刻机制造的关键技术再次取得进步，我们与光刻机的距离已经逐渐缩小。这一技术就是中国电科的离子注入机。此次研发为我们取得了重大突破。即便是孤军奋战，不用外国零件我们一样可以成功。只要取得百分百自主权，才能打破重围，扭转乾坤。

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中国科学家自主研发的探索之路将不会停止，外界对我们建立的“牢房”也会被我们一举打破。挑战与机遇并行，国产光刻机的制作会伴随一次又一次的突破迎刃而解。让我们为中国科学家点个赞吧！
【央视正式确认,光刻机又一关键技术取得突破,国产化迎来利好】（文：张张）