阿斯麦尔|外媒：ASML的态度逐步“强硬”了！( 二 ) 光刻机|芯片|it芯片

而ASML之所以这么的着急，还有一个非常很重要的因素，那就是目前在氖气上大量缺失，目前也只有中国市场，能够弥补这么大缺口，这或许也是其极力讨好国内厂商的原因。

目前国内市场对于芯片的需求，呈现着逐年递增的状态，国产芯片的月产量已经达到了300亿片，这样的市场前景早已超越了美市场，如果能够得到我们的帮助， ASML将有效缓解光刻机的生产问题。
同时也因为国产光刻技术的发展，给ASML造成了不小的压力，类似核心的曝光技术、浸润系统、双工件台等等核心技术，均已实现了相应的突破，有的甚至足以支持EUV水准。
【阿斯麦尔|外媒：ASML的态度逐步“强硬”了！】目前中科院高度重视光刻机技术，有了国际层面的支持，距离完全国产化到来已经不远了，而ASML的压力不仅仅源自于此，自身无法摆脱含美的技术，很多企业都想着摆脱光刻机实现芯片制造。

据悉美日联合研发的NIL工艺，可以不用EUV光刻机，就能够实现5nm芯片的制造，而台积电、华为相继验证的芯片堆叠工艺，也都在预示着光刻机并非是唯一，一旦新材料得到了突破， ASML的优势也将逐步消散，对此你们是怎么看的呢？