一加科技|上海新阳正式官宣，事关国产7nm芯片( 二 )

2022-08-01 it芯片一加科技

而现在上海新阳已有ArF光刻胶产品，意味着对国产芯片制造产业将起到加速自主化的作用。
而且上海新阳的这项ArF光刻胶产品事关国产7nm芯片，前面提到ArF光刻胶可用于7nm工艺节点，我国在7nm芯片制造产业链中并非没有布局，甚至还下探到了更先进的5nm 。
比如中微半导体的刻蚀机就可成功刻蚀5nm芯片，在芯片设计层面也有一些国产5nm订单作为需求支撑。

所以上海新阳将来如果能彻底攻克7nm制程节点的ArF光刻胶，必然有利于国产7nm芯片的发展。解决了一个问题，再去解决第二个，第三个，按这种趋势发展下去，迈入最终一步也并非不可能。
国产光刻胶的发展状况虽然上海新阳并没有透露已有的ArF光刻胶是处在多少纳米水准，也许是55nm ，也许是28nm ，甚至是14nm都有可能。如果情况再好一些，上海新阳又取得了重大科研进展，触碰到7nm ArF光刻胶也未必没有可能。

除去上海新阳这次传来的好消息，让大家知道了这家公司有怎样的业务情况，那么国产光刻胶又处于怎样的发展状况呢？总的来看，可能暂时达不到日本光刻胶垄断产业的水准，但已经有很多国产光刻胶厂商不断取得进步。
比如南大光电在ArF多个技术节点实现认证，重要项目通过国家级专家组验收。还有晶瑞电材的193nm ArF光刻胶研发工作已经展开。彤程新材的KrF光刻胶已实现批量供货。其余的广信材料，飞凯材料等等国产光刻胶厂商均有各自的进展。

这些国产企业相对集中在中低端光刻胶市场，而在中端已经有南大光电，上海新阳成为主力。至于高端的EUV光刻胶，目前仍处在进口阶段。
写在最后国产光刻胶和诸多核心半导体技术一样，都是需要长期耕耘和努力付出的。日本能在光刻胶领域取得这般地位，同样是靠几十年的积累。所以不需要气馁，相信只要不断取得进步，一定能实现厚积薄发。
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