|我国光刻机取得突破，将光源0.1nm设备投入使用

文章图片

文章图片

在美国的限制下， ASML没办法向中国提供高端的EUV光刻机，但我国也不是会轻言放弃的。就在最近，央视正式发布消息，我国不仅在EUV光刻机上取得突破，还将光源0.1nm的设备投入使用。

美国阻止ASML
目前，在科技领域各个企业都离不开的就是芯片。但我国在芯片的设计制造和芯片研发必须的光刻机上都要依赖其他国家。虽然在光刻机领域，我国也研发出700多台光刻机，但这些光刻机都属于中低端产品，我国缺少高端光刻机。
在高端新芯片领域， ASML一家独大，占据了所有高端的EUV光刻机，即使是这样厉害的企业，也使用了美国的技术，所以ASML没办法向我国供应EUV光刻机。其实，早在美国还没有限制我国的时候，我国就曾向ASML购买EUV ，但在当时，美国就出手阻拦，让我国没办法获得ASML的光刻机。
我国在那时候就引起了广泛的关注，所以在受美国限制之后，我国更是全面进入自主研发的状态。虽然中芯国际现在还没有非常高端的芯片产品，但我国不会因此止步不前，缺少的技术我国照样可以自己研发出来。

我国光刻机取得突破
就在最近，我国央视正式发布好消息，我国已经在EUV技术上取得突破，大家都知道， EUV光刻机由3个核心部分构成，分别是EUV光源、双工件台和EUV光学镜头。而现在，我国已经在前两个核心部件上取得成功了，只剩下EUV光学镜头这一项制程我国就可以实现光刻机的国产化了。
而现在央视表示，中科院研究的国内第一台高能光源设备已经开始使用了，这意味着，我国的光刻机可能就快要问世了。并且中科科美研究的透镜镀膜技术，完成了光学零件0.1nm的镀膜设备。这项技术，满足了大部分物理镜头对膜层制造的需求，同时还能用于光刻机的镜头装备中，简直是一举两得。中科院在光学领域取得如此如此成就，将为我国的高端光学带来质的飞跃。
而EUV光刻机的镜头因为需要使用的工艺更高，所以对镜头镜面的清晰度要求也是极高。在此之前，这项技术能够研发的就只有德国的一家企业，蔡司。并且这家企业内能够制造出来这种镜头的人才也只有20人左右。

中科院研发的适合光刻机镜头的设备，在一定程度上能减少国产厂商在光刻机镜头中面临的压力，对我国的光刻机镜头的发展起到推进作用。不仅提高了我国的镜头水准，还帮助我国加速生产芯片制程的目标。
再加上中科院正在安装的光源设备，让我国芯片行业取得了巨大成就。据统计，到6月底，中科院的安装项目已经完成了70% 。值得一提的是，这种光源可以应用在芯片制程和航天工程中。这种高强度的光源还大大降低了我国光刻机的制程难度，为我国的高端芯片制程的发展做出了突出贡献。
更重要的是，使用了中科院研发的设备，我国的半导体领域的企业可以离实现国产光刻机的目标上更进一步。据了解，这些设备在2022年就能为芯片行业提供支持。这样的话，我国在光刻机的零件上不仅实现了很大的突破，而且这些设备全都是出自中国之手。
不仅如此，虽然现在我们没办法马上就生产出EUV光刻机，但是我国在芯片技术上取得的一项又一项的突破是有目共睹的。现在，我国南大光电生产的材料已经能达到了国际水平，还赢得了海外人员的认可。