光刻机|围堵之下！光刻机、3nm、抛光等设备都来了，美“功不可没”！半导体

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对于围堵，最漂亮的反击就是实现突破！
近来有媒体爆料称美欲施压于荷兰，简单来说就是不能将先进光刻机出口于华，毕竟美在半导体领域的产业链还是很庞大的，光刻机某核心器件就在美手里，所以荷兰也是比较处于“观望”状态。而如今算起来，美一次次的升级制裁，也算是有了两百多天。

前两天张忠谋还在某大会上表示，半导体的生意就应该建立在相互自由的基础之上，但一纸禁令下来谁又能打破这个僵局呢？于是各国似乎一夜之间都意识到问题的严重性，开始了自研的规划，就国内而言，更是定下2025年芯片自给率70%的目标，且近来国内半导体频频获得突破，而这“围堵”的后果，也或许只是一个开始！

光刻机、3nm、抛光等设备都来了在7月21日的时候青岛传来一个消息，大体就是说富士康与青岛联合打造的集成电路产业迎来了新的进展，其中国产设备(SMEE封装光刻机)也进入了厂房，至此算是告一段落，而这个项目预计将会在10月份实现试产，到年底实现量产的计划，力争年产能36万片晶元。
从这里我们就可以看到，国内不少企业、地区开始疯狂地建设和集成电路相关产业，而所使用到的设备，也开始逐渐国产化。
尽管现在的上海微电子光刻机还只是90nm ，但也被爆出28nm或将于今年交付。
【光刻机|围堵之下！光刻机、3nm、抛光等设备都来了，美“功不可没”！】
在光刻机的技术研发上，我们也取得了一定的突破，如今年初清华被爆出的在光源方面获得了突破，或将取代荷兰所采用的光源解决方案。
再如中科院近来也被爆出首台高能辐射光源设备已经完成了安装，还有双工件台系统国内也获得了一定的突破，那么下一步对光刻机的研发，也将持续下去，或将突破的更多。
除了光刻机之外，关于3nm的事情国内也传来消息。
如此前被爆出华为海思并未停止对3nm的研发，甚至还全球招募人才，加入团队之中。

而近来上海传来消息，剑指3nm ，将会大力鼓励、扶持相关企业在3nm方面的攻克，而这也是继“东方芯港”之后上海传来的又一大动作，既然已经提到鼓励3nm的研发，说明后期的生态也会跟着完善。
当然，如抛光设备、清洗设备、离子注入器等等国内也纷纷获得突破，甚至打入中芯、华虹、台积电等产业链中，尤其是至纯科技的清洗设备，据爆料预计将明年提交14nm设备，这样的进步速度，可以说是很给力了！

SEMI、SIA甚至《福布斯》都曾发过文章指出国内在大力发展，而美也将面临同等问题，但是在投资上可能会后劲不足。
尤其是SIA曾给出预测，未来十年，国内将会成为全球最大的芯片工厂。
美的断供，利弊相存。我们确实一段时间内难以获得芯片的代工或是设备的进口，但是这也给国内提供了机会，市场上的空缺也让国产企业积极发展，快速占据市场，再加上国家的政C和扶持，之前甚至拿不到订单，如今试错的机会有了，迭代升级的可能性有了，那么优化产线优化产品的机会也就大了！