国产光刻机EUV技术,取代ASML市场,成本是难点
目前荷兰ASML光刻机技术 , 已经做到了7nm以下 , 在EUV技术上形成了自己的垄断地位 。 未来国产光刻机解决了EUV技术 , 能不能被市场认可 , 现在看是一个很大的问题 。 在光刻机需求市场上 , DUV技术是晶圆厂的必需品 , 真正需要EUV技术的企业并不多 。 韩国三星、台积电 , 勉强达到了7nm工艺 , 像英特尔芯片制造 , 至今依然停留在10nm、14nm工艺 , 对EUV技术没有太高的需求 。
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【国产光刻机EUV技术,取代ASML市场,成本是难点】根据以往经验 , 光刻机只有到了10nm以及以下 , 才会使用euv技术 。 在10nm以上 , 特别是28nm工艺上 , 一台DUV工艺的光刻机 , 已经可以满足市场需求 。 现在euv光刻机的真正买家 , 台积电和三星公司占了大头 , 两家企业的5nm芯片市场份额占了全球仅90%以上 , 恰恰因为高端芯片制造工艺的市场份额够足 , 才为ASML公司提供了源源不断的研发资金 , 用于EUV技术改进 , 增加研发资金 。
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因为手握欧洲、美国、大陆等三大市场 , 台积电、三星公司才制造出了7nm芯片 , 才有了购买EUV光刻机的动力 。 国产光刻机企业研发了euv技术 , 可以供应的企业 , 很可能不是2家 , 而是仅仅有一家企业 。 由于韩国和台湾企业的竞争 , 最终能供应的企业 , 也许大陆仅有一家是客户 。
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如果没有几家全球级别的晶圆厂支持 , 国产EUV光刻机很容易失去市场 , 支持新技术更新 , 造成培养的人才向ASML等公司流失 , 最终会使机器卖的贵 , 没有人敢购买 , 形成恶性循环 。 ASML光刻机作为竞争者 , 面对国产光刻机的入场 , 很容易选择调低价格 , 从而留住三星、台积两个客户 , 加上美国干预定能抓住自己的市场份额 。
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光刻机的研发需要资金 , EUV光刻机更需要资金 , 如果没有台积电、三星等企业 , 对国产EUV技术的采购 , 其成本很难降下来 , 最终结果可能继续需要依靠ASML主导光刻机 , 才能支撑全球先进的芯片工艺研发 。
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