照搬老美？日本宣布断供我国光刻胶！我国半导体将迎来最大契机？顾客|行业|打工者|烟酒店|眼镜

导语：遭遇“芯片禁令”以来，全球芯片供应链遭受影响，各地纷纷出现芯片荒的现象，中国的芯片制造和应用也因此受到影响

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在今年的5月份，一家名为“信越化学”的日本企业，宣布不再对中国半导体企业出售光刻胶，这再次让我们的半导体行业发展遭受影响
在我国努力实现芯片自主生产之际，日本竟也开始落井下石，中断合作，这光刻胶到底是什么东西？为何会让半导体、芯片的发展受到影响
光刻胶又被称为抗蚀剂，它是一种对光敏感的混合液体，主要由光引发剂（包括光增感剂，光致产酸剂）光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂

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光刻胶可以通过光化学反应，经过曝光、显影等工序，将所需要的微细图形从光照转移到集成电路材料、面板材料或印刷电路板上，缺少光刻胶，半导体的光刻流程就无法正常进行
它的重要功用不言而喻，离开光刻胶，芯片的生产也将成为难题
曾几何时，我国的芯片主要依靠进口，可在芯片禁令的制裁下，中国的芯片供应因此受到影响

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如今，我们在实现芯片自主生产时，日本竟然又对光刻胶断供，这对于我国的半导体发展来说是非常不利的
要知道，现在的光刻胶市场，仅日本就占据着72%，而我国的光刻胶只有13%的市场份额，日本当下取得的成就让人惊讶，因为最早生产应用光刻胶的公司是美国的柯达公司
在过去很长的一段时间内，无论是技术，还是生产应用，他们都做到了世界领先的位置，但光刻胶的好坏，并不取决于他自身，而是上游的光刻机产业

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这就不得不说美国的光刻机了，他们可是曾经的王者，但却被日本赶超，这里面究竟有什么故事呢？
1976年，日本的抵抗机能开始进入光刻机领域发展，进军该领域前，他们就定下超越美国半导体龙头的年头
1986年，半导体市场遭遇滑铁卢，美国光刻机市场遭受重创，日本趁机入局，再也顾不上什么武士道精神，直接抢占美国的光刻机市场

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与此同时，他们推出了新一代Krf光刻机，1995年，日本Krf光刻胶实现商业化，彻底突破以IBM为首美国企业的技术封锁
后来，美国在光刻机市场份额越来越小，眼看着日本的发展势头迅猛，后来却被一家新兴荷兰企业ASML超过，半导体市场再次转移到日本与韩国
相较于之前，日本的处境虽然有些落魄，但瘦死的骆驼比马大，经历多年技术积累，他们在光刻胶领域，拥有大量的专利和技术设备，仅凭产能就能击退潜在的竞争者

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如今，光刻胶已经成为他们的战略武器，2019年，日本就曾宣布对韩国限制光刻胶出口，当时的韩国也不得不面临芯片停产，或许你会好奇，光刻胶这么重要，为何我国不去攻关呢？
纵观半导体行业，没有一定的技术积累和时间沉淀是很难实现发展的，这需要长时间的布局和重金投入，短时间内很难见到成效
而且光刻胶的市场规模小，受到产业限制，但从财务角度去看，它都不是很好的生意，而且光刻机的更新迭代速度极快，我国在光刻机领域发展尚且落后