芯片|中芯梁孟松正式宣布！事关国产7nm芯片，可以不用EUV光刻机？( 二 ) 中芯国际|梁孟松|光刻机|it芯片

而N＋2工艺与N+1工艺的主要区别在于性能和成本上， N＋2主要是面向高性能的，单位面积晶体管密度大幅提度高，因此成本也随之增加。
梁孟松表示， N＋1工艺在功耗及稳定性上跟7nm工艺是非常相似，但因为N＋1主要面向低功耗应用的，所以性能要比7nm低一些。
【芯片|中芯梁孟松正式宣布！事关国产7nm芯片，可以不用EUV光刻机？】发展到现在，中芯国际的8英寸晶圆产能已经能达到月产10万片的稳定量产了，预计在今年下半年要超过15万片以上。

对于7nm工艺的研发，早在2020年中芯国际就已研发多时，有了成熟8nm技术的基础，想必7nm技术应该也不会差到哪里去。
而且之前台积电之所以工艺进步神速，很大一部分原因也是因为华为将其自研的芯片交由台积电代工，在华为的技术支持下，台积电生产过程中有不足之处华为也能给予一定的技术支持。
但自从2020年开始华为已经将一部分订单转向中芯国际，想必中芯国际的研发进程能够更上一层楼。
结论自从2020年底中芯国际遭到美方的技术封锁后，想突破这层瓶颈只能发展国产替代，在芯片国产化这条路上，中芯国际决定走短期扩充产能，长期突破研发的路线。
由于全球芯片紧缺，所以即使技术受阻，但中芯国际的发展态势依然良好。且从中芯国际已经接下的订单来看，制程来对来说并没有那么“先进” 。从这也可以看出，中芯国际主要是基于成熟工艺的稳步发展，而并非刻意追寻先进制程。

所以中芯国际现在宣布迈进7nm ，也是基于成熟工艺的基础上的稳步迈进，并不是贸贸然就急着追赶的。相信不用过多久就能实现7nm制程的量产。
对于中芯国际跨入7nm ，大家有什么看法呢？欢迎留下您独到的见解。