芯片|美断供芯片俄罗斯决定从头开造光刻机( 二 ) 俄罗斯|光刻机|美断供芯片|俄

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△带有 X 射线透射率控制的无掩模 X 射线光刻安装方案
除此之外，官方没有透露该计划的更多细节。
“是全世界都在帮荷兰ASML”
看完了计划本身，也就多少能理解为什么更多人依然疑问满满：
俄罗斯造光刻机，这事儿到底靠谱吗？
毕竟俄罗斯有很多高科技，总是雷声大雨点小……
不过也有人表示，俄罗斯的黑科技点不亮，难点在于缺钱、缺工业基础，理论方面还真的不一定落后。
这次光刻机研发计划，其相关研究最早能追溯到上世纪80年代。当时他们就已经在研究制造光源了。
1984年，泽列诺格勒科学中心受到政府指派，开始研发同步辐射加速器。
这个研究所，来头可不小。它后来被并入大名鼎鼎的库尔恰托夫研究所，苏联第一颗原子弹、第一颗氢弹、欧洲第一座原子反应堆、世界上第一作原子能发电站，都是从这个研究所走出来的。
但好景不长，这台加速器的研究在开展4年后就暂时被中止，直到2002年才再次试运行。
现在，俄罗斯打算基于这些技术积累，围绕这台加速器专门建立一个技术中心，并预计在2023年正式投入使用。
至于无掩膜光刻，他们一开始其实并没有选择这一路径，甚至还一度与ASML平齐。
早在2010年， ASML出货第一台预生产的EUV光刻机时，俄罗斯一个物理研究所IPM（RAS）也在开发EUV的系统及元件，以及装置原型的搭建。
其中开发人员还提出了辐射源设计的原始解决方案，部分还应用到了ASML光刻机上。
然鹅，这个项目在布局阶段就结束了。
RAS首席研究员、苏联国家奖获得者、多层X射线光学系主任Salashchenko Nikolay透露了原因：
一个国家无法单独拉动这项工作。而全世界都在帮助荷兰（ASML在荷兰）。
于是，他们就开始寻找其他路径，在无掩膜式光刻机上迭代工艺就是其中一种。
之所以让MIET承接，是因为此前MIET跟一些机构合作中，在无掩膜EUV光刻机上有过研究进展。
2002年， MIET中主要从事纳米电子器件研究的研究中心成立。
研究领域覆盖X射线器件、微机电系统和纳机电系统——这些技术都与研发光刻机密切相关。
并且已经开展了部分研究，比如“基于微聚焦X射线管列阵的软X射线源研制，适用于10nm无掩膜光刻机” ，就是其中之一。
这项研究由RAS微观结构物理研究所的Nikolay Chkhalo教授牵头。
他目前是该研究所的实验室主任，发表论文200多篇，主要研究领域为X射线光学、光学干涉测量等。
综上可见，从理论基础这一角度来看，俄罗斯搞光刻机这事儿也不能说完全不靠谱。
不过值得一提的是，在俄媒最近的报道中也直言，光刻机计划晚了15年。
如果这一计划在15年前启动，或许俄罗斯现在不会面临如此大的微电子技术威胁了。
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值得注意的是，就在这消息大范围传开的前夕，美国财政部宣布冻结俄罗斯21家实体企业、13个人的在美资产。

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