而ASML自然不愿被抛下 ， 其加速推进EUV光刻机的技术升级 ， 目的就是巩固ASML光刻机的地位 。
其推出一口气推出两款0.55 数值孔径的EUV光刻机 ， 并计划在2025年推出更先进的High-NA 技术 。
目的就是为生产制造更先进的芯片 ， 将芯片制程缩小至2nm、1nm ， 甚至是1nm以下 。
【光刻机|286台光刻机和1340亿元！ASML正式宣布新消息，EUV光刻机信息量大】对于ASML宣布的新消息 ， 你们怎么看 ， 欢迎留言、点赞、分享 。
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