芯片|国产芯片巨头裁员居然还要求员工赔偿，网友感叹：难怪发展不起来( 二 ) 裁员|半导体|台积电|it芯片

昔日全球半导体产业格局
台积电为什么能够后来居上反超英特尔、东芝、松下、三星等一众半导体巨头？最重要的原因就是人才。在半导体垂直分工时代，英特尔、德州仪器、NEC、三菱、东芝等半导体巨头都拥有自己的半导体工厂，台积电也难以从这些巨头手中得到订单。想要改变这种困难局面，必须在技术上有所创新。
但是相比这些已经深耕半导体几十上百年的科技巨头，诞生于1987年的台积电就相当于婴儿面对巨人，唯一的胜机就是弯道超车。 “弯道超车”说起来容易做起来难，一不小心不仅仅路找不到，还有可能将整个台积电拖下水。因此台积电一边选择跟随战术，一边时刻寻求突破的机会。

让台积电崛起的关键人物林本坚
当时间来到2002年，随着传统的干式光刻法的光源卡在193nm波长难以取得进展，芯片制程也停止在65nm制程寸步难行。当时的光刻机巨头尼康和佳能依然按照传统的技术路线，准备推进光源向下一代的157nm光源发展，但是时任台积电技术负责人的林本坚敏锐地发现了另一条道路——在光源突破困难的前提下，改变光刻方法，利用水做介质使光线通过浸在液体中的微缩影镜头时获得精度更高的光刻效果，这也被称为“浸润式光刻” 。

光刻机巨头佳能走下神坛
但尼康和佳能由于已经在157nm光源上投入了大量的研发资源，因此对于林本坚提出的浸润式光刻技术并未理会，相反当时还十分弱小的ASML则同样敏锐地看到了凭借浸润式光刻技术弯道超车尼康和佳能的可能性，一拍即合之下，台积电和ASML联手打造世界第一台浸润式微影机台，在传统的193nm光源上使用浸润式光刻技术，通过利用水的折射将波长缩减到134nm ，不但成本更低，实际效果也超过了尼康和佳能157nm光源的干式光刻法。

ASML
凭借更为精准的光刻技术和更为低廉的价格， ASML光刻机开始迅速抢占市场，作为合作方的台积电也借由更新进的光刻机开始抢夺芯片制造份额，最终台积电成为全球最大的芯片制造厂商， ASML也成为全球最大的光刻机厂商。
台积电和ASML的成功，可以说正是以林本坚为代表的技术人员通过技术升级最终实现了弯道超车。如果当年台积电老老实实跟在尼康和佳能后面研制157nm光源的干式光刻法，那么台积电永远也没有机会走到今天这一步。
通过台积电和ASML也可以看到人才的重要性，有时候正是技术人员的一项创新，可能就带来弯道超车的发展机遇。但如今长江存储对于人才的态度则令人有些心寒。试想有多少怀着一腔热情准备参与国产半导体产业建设的热血青年被长江存储这种做法弄得心灰意冷而选择离开，同时今后在顶级半导体人才择业时，又有多少人会选择做出这种事情的长江存储？

长江存储
不可否认长江存储为国产芯片发展做出的贡献，也不可否认长江存储目前遇到的困难，但是以这种态度对待人才，长江存储在短时间内确实可以节省一部分资金，但是在和未来所要承受的隐形损失相比，或许只是小巫见大巫。
【芯片|国产芯片巨头裁员居然还要求员工赔偿，网友感叹：难怪发展不起来】古语有云“国士遇我，国士报之” ，或许长江存储通过种种手段最终可以度过这次危机，但是那些怀着一腔热情准备报效国产半导体的优秀人才，长江存储或许再也遇不到了。