当然 ， ASML也面临其它厂商的压力 ， 国产全新光刻机即将到来 ， 届时 ， ASML的DUV光刻机在国内的市场就会缩小 。
再加上 ， 佳能、铠侠等厂商突出NIL工艺 ， 不用EUV光刻机也能够将芯片缩至5nm 。
在这样的情况 ， ASML必须要实现EUV光刻机自由出货 ， 否则 ， EUV光刻机也不再是必需品 ， 因为佳能等有意推广NIL工艺 。
也正是因为ASML在EUV光刻机产能、NA EUV光刻机交付时间以及营收预期这几个动作 ， 美媒才说ASML多个举动暗示今明两年将向中芯出货EUV光刻机 。
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